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樊子铭

作品数:5 被引量:6H指数:1
供职机构:辽宁科技大学材料与冶金学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金辽宁省高等学校优秀人才支持计划辽宁省教育厅高等学校科学研究项目更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 2篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇射频磁控
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇光学
  • 2篇光学性
  • 2篇光学性能
  • 2篇非晶
  • 1篇带宽
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化物
  • 1篇氧化锡
  • 1篇碳氮化物
  • 1篇透光率
  • 1篇平衡相
  • 1篇阈值电压
  • 1篇析出物
  • 1篇开关比
  • 1篇抗菌

机构

  • 5篇辽宁科技大学
  • 1篇沈阳工业大学
  • 1篇鞍钢股份有限...

作者

  • 5篇樊子铭
  • 3篇周艳文
  • 2篇宁洁
  • 1篇吴法宇
  • 1篇郑建军
  • 1篇孙成钱
  • 1篇张红梅
  • 1篇李建伟

传媒

  • 2篇辽宁科技大学...
  • 1篇金属学报
  • 1篇材料保护

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
粉末靶磁控溅射制备F掺杂SnO_2薄膜的结构及光学性能被引量:3
2014年
采用粉末靶射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备氟掺杂二氧化锡(FTO)薄膜。结果表明:制备的样品为多晶薄膜,具有二氧化锡的四方金红石结构。沉积气氛的含氧量增加,会使薄膜的主要择优取向由(211)转变成(110)。除沉积气氛中无氧的超厚薄膜外,其他FTO可见光区平均透光率可达90%。
宁洁周艳文樊子铭
关键词:磁控溅射二氧化锡光学性能
无结晶体管的研究现状及展望被引量:1
2013年
晶体管是电子设备的关键器件,对电子设备的性能起到很大的作用。现有的晶体管主要是由引入掺杂原子到半导体材料中形成半导体结构成。而无结晶体管是源极、漏极、沟道共用一根纳米线,没有形成传统的源极结和漏极结,因此简化了制作工艺,降低了制作成本。本文主要论述了无结晶体管的发展历史、工作原理、主要性能和分类,并对无结晶体管的应用进行了展望。
周艳文樊子铭宁洁
关键词:开关比阈值电压
射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜制备与性能研究
薄膜晶体管(TFT)作为平板显示器件的核心元件,主要由以沉积形成的半导体、金属和绝缘体薄膜组成。目前,市面上的TFT大多是由SiO2薄膜作为绝缘层,但是随着电子设备的不断发展,SiO2薄膜已经不能满足TFT的需要。由于具...
樊子铭
关键词:透光率抗菌率
文献传递
粉末靶射频磁控溅射非晶Al_2O_3薄膜的制备与性能研究被引量:1
2016年
采用粉末靶射频磁控溅射方法制备非晶Al_2O_3薄膜,分析了溅射工艺参数对Al_2O_3薄膜微观结构、表面形貌、光学性能的影响规律及机理,并探究其抗菌特性.研究结果表明:增加氧通量、降低溅射功率和缩短溅射时间均会减小非晶Al_2O_3薄膜颗粒度与粗糙度,同时也降低薄膜的沉积速率;并且,氧通量的增加和溅射时间的缩短均会使非晶Al_2O_3薄膜禁带宽度变宽(最大值可达4.21 e V)、透光率增大(超过90%);光照条件下非晶Al_2O_3薄膜24 h抗菌率最高可达98.6%,体现出了较好的光催化抗菌性.
吴法宇李建伟齐羿丁梧桐樊子铭周艳文
关键词:射频磁控溅射光学性能抗菌特性
Mn16钢V析出物的平衡相计算及分析
2012年
为预测和控制钢中V的析出物以及优化钢的成分,利用Thermo-Calc热力学软件对Mn16钢在不同温度下析出相的组成、相的析出温度、V的析出规律进行了计算,研究了C,N含量对V析出规律的影响。结合复型透射实验对V的析出行为进行了研究。结果表明:平衡态下微合金钢中的析出相主要为MnS,AlN,(TiV)(CN),(VTi)(CN)。微量的V可以在高温下的奥氏体中与Ti复合析出,形成(TiV)(CN);而钢中的V主要是以单独相的形式在γ→α"相间析出",形成VC。C含量的变化对V(CN)的析出行为影响不大,N对V(CN)的析出温度影响较显著,特别是N质量分数在0.02%~0.03%时,V(CN)的析出温度升高了124℃。
郑建军张红梅樊子铭孙成钱
关键词:THERMO-CALC软件碳氮化物
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