采用粉末靶射频磁控溅射方法制备非晶Al_2O_3薄膜,分析了溅射工艺参数对Al_2O_3薄膜微观结构、表面形貌、光学性能的影响规律及机理,并探究其抗菌特性.研究结果表明:增加氧通量、降低溅射功率和缩短溅射时间均会减小非晶Al_2O_3薄膜颗粒度与粗糙度,同时也降低薄膜的沉积速率;并且,氧通量的增加和溅射时间的缩短均会使非晶Al_2O_3薄膜禁带宽度变宽(最大值可达4.21 e V)、透光率增大(超过90%);光照条件下非晶Al_2O_3薄膜24 h抗菌率最高可达98.6%,体现出了较好的光催化抗菌性.
