刘成森
- 作品数：23 被引量：46H指数：4
- 供职机构：辽宁师范大学物理与电子技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金表面物理与化学国家重点实验室开放基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>
- 球心处有附加电极的半圆形容器等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化被引量：10
- 2008年
- 本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下,等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程。考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了容器内外表面的离子束流密度分布和注入剂量分布随时间的变化规律。研究结果显示,容器内表面附近鞘层扩展到附加电极后,其中的离子逐渐都注入到容器内表面、电场分布逐渐趋于稳定。同时,在容器内表面上,离子注入剂量不再增加。
- 刘成森李晓红王德真刘天伟
- 等离子体源离子注入半圆碗状球内壁离子能量和角度分布
- 2008年
- 在等离子体源离子注入(PSII)技术中,被加工材料表明形状的弯曲使附近鞘层中电场结构出现聚焦效应,从而引起离子束流和离子注入剂量在材料表明上分布非常不均匀.在半圆容器表面情况下,这种情况尤为明显.利用MonteCarlo方法,考察了有共心附加零电位电极时半圆容器内底中央部位Ar+注入能量和角度分布及真空室中气压参数的影响.通过在不同半径的鞘层边界上随机抽取与半径成正比的离子数量,计算了注入到内底表面的所有离子能量分布和角度分布.在模型中,通过考虑两种主要碰撞过程:电荷交换碰撞和弹性碰撞.对不同工作气压下的离子注入进行了考察.随着中性气体压力的增加,离子在穿越鞘层的过程中与中性粒子经历比较频繁的碰撞.这些碰撞一方面使离子失去能量,另一方面也使离子改变运动方向,导致注入的低能离子和不垂直于表面入射的离子增多.
- 刘成森吴雪飞高昕昕
- 关键词：MONTECARLO模拟
- 空心圆管端点附近等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化被引量：11
- 2003年
- 等离子体源离子注入过程中 ,鞘层的演化规律直接影响到离子注入到材料中的深度进而影响材料表面的性质和结构 ,对材料的不同部位这种影响是不同的 .利用无碰撞两维流体动力学模型 ,研究了有限上升时间的电压脉冲作用下 ,共轴放置附加零电极的半无限空心圆管端点附近等离子体源离子注入过程中 ,鞘层的时空演化规律 .通过计算得到了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布 ,计算了端点附近材料表面处的离子流密度分布和注入剂量分布随时间的变化规律 .计算机模拟结果显示了空心圆管内部、外部及端点表面处的离子流密度分布和注入剂量分布存在很大差异 .
- 刘成森王德真
- 关键词：鞘层流体模型离子密度
- 旋转液体反射抛物面镜被引量：3
- 2016年
- 利用光学Mach-Zehnder干涉仪对旋转液体产生的轴对称抛物面的光学反射性能进行了研究.液体抛物面反射镜作为干涉仪的一个反射镜产生的球面波与另一条光路中的平面波干涉形成同心圆的干涉条纹,利用CCD相机采集干涉条纹图像,通过计算机图像处理程序得到旋转液体反射波面的形貌,实现对液体反射镜表面形状的分析.光学干涉技术的高精度特点保证了测量的准确性.
- 刘畅刘成森孙佳星徐佳敏杨瑶梅雪君赵琳琳
- 关键词：干涉条纹图像处理牛顿环
- 附加电极半径对空心圆管端点附近离子注入剂量的影响被引量：1
- 2007年
- 在带有共轴零电位附加电极的空心圆管等离子体源离子注入过程中,附加电极半径的大小直接影响到空心圆管端点内表面、端点表面和外表面的离子注入剂量,进而影响空心圆管表面的结构和性质,对空心圆管的不同部位这种影响是不同的.利用无碰撞两维流体动力学模型,研究了有限上升时间的电压脉冲作用下,共轴放置附加零电位的半无限空心圆管端点附近等离子体源离子注入过程中,附加电极半径变化时,空心圆管端点附近离子注入剂量分布随时间的演化规律.计算机模拟结果显示了附加电极半径改变时,空心圆管内部、外部及端点表面处的离子注入剂量分布发生变化.
- 刘成森郭南南霍伟刚
- 利用LED光源进行双棱镜干涉测光波波长被引量：3
- 2020年
- 利用LED光源代替传统双棱镜干涉仪中的钠光灯,实现了双光束干涉,获得了质量优良的干涉条纹。通过对双棱镜干涉仪的改良,获得的系统更加简单;电池驱动的LED光源脱离了钠光灯使用市电的约束,使设备紧凑便携;LED光源相对于钠光灯的高相干性,使得干涉仪调整非常容易,大大提高了实验效率。利用改进后的双棱镜干涉仪测量了光源的光波长,获得了满意的实验结果。
- 方岩刘成森薛太萍王玥于国辉孙娇月彭金金宋嘉琦
- 关键词：LED光源双棱镜干涉
- 半圆形容器等离子体源离子注入过程中离子动力学的两维PIC计算机模拟被引量：9
- 2008年
- 利用两维particle-in-cell方法研究了半圆形容器表面等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化规律.详尽考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布规律,离子在鞘层中的运动轨迹和运动状态,得到了半圆容器内、外表面和边缘平面上各点离子注入剂量分布规律,获得了工件表面各点注入离子的入射角分布规律.研究结果揭示了半圆容器边缘附近鞘层中离子聚焦现象,以及离子聚焦现象导致工件表面注入剂量分布和注入角度分布存在很大不均匀的基本物理规律.
- 刘成森王德真刘天伟王艳辉
- 关键词：鞘层
- 等离子体源离子注入及辉光放电过程中脉冲鞘层动力学研究
- 针对等离子体源离子注入(PSII)过程中的直流脉冲(DC)鞘层,本文建立了两维自洽流体动力学模型,模型包括描述离子的连续性方程、动量方程、电子Boltzmann分布,以及描述鞘层中电势分布的泊松方程.利用这一模型研究了等...
- 刘成森
- 关键词：流体动力学模型
- 射频感应耦合等离子体调谐基片自偏压特性的进一步研究
- 2008年
- 在已有的调谐基片自偏压研究的基础上,进一步研究了基片台空间轴向位置对基片自偏压-调谐电容曲线的影响;研究了基片分支串联电阻对基片自偏压的影响,发现了在电阻值区自偏压自振荡现象;在不同的放电参数下,采用自制诊断工具测量了射频感应耦合等离子体电子温度、电子密度等参量的空间分布.并对基片自偏压相应的实验现象给出了物理模型解释.
- 霍伟刚杨艳刘成森丁振峰
- 关键词：射频等离子体正反馈
- 光干涉条纹稳定性的处理方法
- 现在很多高校的物理实验室进行光干涉实验时，在采集干涉条纹的过程中条纹都会发生振动，降低了采集的信息的准确性。出现此类问题的原因一是干涉仪所在的全息台本身会存在一个固有的振动频率，而且这种振动在实验中是无法避免的；二是实验...
- 冯淑艳顾佳佳刘成森
- 关键词：高等教育光干涉物理实验室
