刘天伟
- 作品数：83 被引量：126H指数：7
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国防基础科研计划中国工程物理研究院科技发展基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学核科学技术更多>>
- 先进烧结技术制备高熵陶瓷的研究进展
- 2024年
- 高熵陶瓷作为近年来发现的新型材料,因其独特的结构和高熵效应,受到了广泛关注。由于高熵效应中的迟滞扩散效应,高熵陶瓷需要在较高温度下长时间保温才能充分致密,制备周期长、耗费能源大。随着先进烧结技术的发展,一些学者采用闪烧、放电等离子烧结和超快高温烧结等先进技术制备高熵陶瓷,在缩短烧结周期和降低烧结温度方面取得了较多成果。对先进烧结技术制备高熵陶瓷的研究进展进行了分析归纳,探讨了不同烧结技术的原理、特点、优势和发展前景,并对未来高熵陶瓷烧结方法的研究方向进行了展望。
- 何金懋赵国梁刘天伟徐晨
- 关键词：放电等离子烧结
- 凹槽工件表面常规磁控与高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜的研究(英文)被引量：1
- 2013年
- 高功率脉冲磁控溅射是一种制备高质量薄膜的新兴方法。在相同的平均功率下分别采用HPPMS技术和传统DCMS技术在凹槽工件表面制备了钒薄膜。对比研究了两种方法下的等离子体组成、薄膜的晶体结构、表面形貌及膜层厚度的异同。结果表明:HPPMS产生的等离子体包括Ar(1+),V(0)和相当数量的V(1+);而DCMS放电时的等离子体包括Ar(1+),V(0)和极少量的V(1+)。两种方法制备的凹槽不同位置处钒薄膜相结构的变化规律大致相似。HPPMS制备的钒薄膜表面致密、平整;而DCMS制备的膜层表面出现非常锐利的尖峰且高度很高,凹槽不同位置表面状态表现出较大差异。DCMS制备的钒薄膜截面表现为疏松的柱状晶结构;而HPPMS制备的膜层也具有轻微的柱状晶结构,但结构更为致密。HPPMS时的膜层厚度小于DCMS时的膜层厚度。与凹槽工件的上表面相比,DCMS时侧壁膜层的厚度为上表面的32%,底部膜层的厚度为上表面的55%。而HPPMS时侧壁的厚度为上表面的35%,底部膜层的厚度为上表面的69%。采用HPPMS方法在凹槽工件表面获得的膜层厚度整体上表现出更好的均匀性。
- 李春伟田修波刘天伟秦建伟杨晶晶巩春志杨士勤
- 关键词：膜厚
- 微波ECR等离子体特性及其对DLC膜性能的影响被引量：3
- 2005年
- 为了解并优化在微波ECR等离子体增强化学气相沉积制备类金刚石膜工艺研究中的等离子体特性,利用朗缪尔探针法系统地测量了等离子体密度(Ne)、电子温度(Te)随工作气压(p)变化的关系。DLC膜的结构和性能依赖于沉积条件,提高等离子体密度有利于DLC膜的生长。本文示出了不同的CH4流量时,DLC膜的拉曼光谱和表面均方根粗糙度Rrms变化曲线,阐述了等离子体密度Ne、电子温度Te对DLC膜结构和性能的影响。
- 陈小锰邓新绿张治国刘天伟丁万昱徐军
- 关键词：等离子体特性ECR等离子体密度DLC膜类金刚石膜工作气压
- 铀合金相图计算进展
- 2012年
- 相图计算在获得合金体系相图和合金设计中起着越来越重要的作用。介绍了相图计算的基本原理和铀合金相图计算的发展情况,并结合块体非晶的成分设计思路阐述相图计算在铀合金成分设计中的应用。
- 陈金繁罗超刘天伟
- 关键词：铀合金相图计算合金设计
- 阴极等离子体电沉积Pt颗粒弥散的Al_2O_3/YSZ复合涂层的性能研究（英文）被引量：2
- 2018年
- 采用阴极等离子电解沉积弥散Pt颗粒增韧YSZ-Pt/Al_2O_3-Pt双层复合涂层。涂层中弥散的Pt颗粒阻碍的氧在涂层中的扩散,提高了涂层的抗氧化性能。Pt颗粒的弥散增韧显著提高了涂层的断裂韧性,缓解了陶瓷层与合金基体在高温下产生的热应力,使得涂层在高温服役过程中具有良好的抗剥落性能。
- 邓舜杰蒋驰刘天伟帅茂兵王鹏
- 关键词：抗高温氧化性能颗粒增韧
- 金属铀表面Cr/CrN多层膜电化学腐蚀行为
- 金属铀具有独特的核性能,在核工业领域得到广泛应用,但其化学性质十分活泼,在高湿和盐雾环境中极易遭受腐蚀,因而解决铀的易腐蚀问题已成为其应用的关键工程技术之一.早在20世纪60年代,Bland等采用蒸发离子镀技术在铀表面制...
- 朱生发吴艳萍刘天伟唐凯魏强
- 关键词：金属铀磁控溅射调制周期
- 一种降低铝合金焊接接头腐蚀速率的方法
- 本发明涉及材料表面防护技术领域，尤其涉及降低铝合金焊接接头腐蚀速率的方法。本发明提供的方法，包括以下步骤：提供微弧氧化处理液；将铝合金焊接接头在所述微弧氧化处理液中进行微弧氧化处理；所述微弧氧化处理液包括主成膜剂、pH调...
- 王晓波全风美刘天伟法涛杨国华姜云波杨婷婷
- 文献传递
- 偏压对ECR-微波等离子增强沉积ZrN薄膜的结构及性能的影响
- 2005年
- 利用ECR-微波等离子溅射沉积技术加不同偏压在45#钢基体上制备了ZrN薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对薄膜的微观组织结构进行了分析。结果表明,无偏压时薄膜为非晶膜,随着偏压的升高,薄膜呈ZrN晶体结构。利用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)测试了薄膜表面形貌。薄膜表面平整,但仍存在局部缺陷;粗糙度(RMS)在0.311—0.811nm之间变化,轮廓算术平均值(Ra)在0.239—0.629nm之间变化。同时利用电化学极化实验在0.5mol/LNaCl溶液中测试了基体及薄膜的耐蚀性能,基体自腐蚀电位Ecorr为–512.3mV,样品Ecorr在–400.3—–482.6mV之间变化,45#钢基体自腐蚀电流Icorr为9.036μA,样品Icorr在0.142—0.694μA之间变化。并讨论了偏压对薄膜的微观组织和耐蚀性能产生影响的原因。
- 刘天伟董闯邓新禄陈曦
- 关键词：非平衡磁控溅射偏压
- U-Co-Al系非晶合金的制备方法
- 本发明公开了一种U‑Co‑Al系非晶合金及其制备方法，目的在于解决目前的铀基非晶合金几乎都是二元合金，非晶形成能力较差，热稳定性较低，抗腐蚀性能数据欠缺的问题。本发明在U‑Co二元体系的基础上，通过添加易于提高非晶形成能...
- 黄火根王英敏刘天伟陈亮张鹏国
- 文献传递
- Ti/Fe(001)体系异质外延生长初期外延岛尺寸作用机制探究
- 2010年
- 采用嵌入原子方法,运用分子动力学,研究了Ti/Fe(001)体系中异质外延初期生长随岛尺寸演变的规律。结果表明:Ti在Fe(001)表面外延生长时存在生长模式转变的临界尺寸,临界尺寸以上,外延岛边缘原子通过向上迁移运动来降低体系能量。体系的界面微观失配度和膜基结合能随外延岛的生长而降低,晶体结构的失配导致外延岛原子间的平均键长小于Fe基体原子间的平均键长。外延岛原子间平均键长的变化将引起外延岛和基体微观形态以及应力应变状态的改变。
- 黄河颜超赖新春刘天伟张庆瑜
- 关键词：分子动力学
