井涛 作品数:5 被引量:28 H指数:2 供职机构: 山东大学化学与化工学院 更多>> 相关领域: 化学工程 金属学及工艺 建筑科学 理学 更多>>
不锈钢电抛光工艺的研究 被引量:21 2005年 采用电化学方法对不锈钢电抛光工艺进行了研究。抛光溶液采用无铬酸盐的磷酸 硫酸体系 ,添加高分子聚乙二醇。抛光溶液组成为H3PO4 (85 % ) 5 0 0g ,硫酸 (98% ) 130g ,聚乙二醇 (18.5 %水溶液 ) 130g ,甘油 30g。工艺条件为 :75~ 95℃ ,阳极电流密度 8~ 15A·dm- 2 。研究结果表明 ,聚乙二醇能有效地形成粘膜 ,明显提高不锈钢电抛光的效果。该工艺减少了环境污染 ,降低了溶液成本 ,可以使不锈钢表面达到镜面光亮的效果。本文还分析了抛光后钝化膜对不锈钢耐蚀性能的影响。 李广武 赵芳 井涛关键词:抛光工艺 不锈钢表面 耐蚀性能 铬酸盐 电抛光 钝化膜 烷基糖苷合成反应终点的鉴定方法 被引量:1 2007年 介绍了一种新型的鉴定烷基糖苷合成反应终点的方法,以乙二胺四乙酸和五水硫酸铜配制的试剂,通过分析反应混合物中葡萄糖的剩余量来鉴定反应终点。当反应混合物中剩余葡萄糖浓度在4.0-7.0 mg/mL时,溶液颜色由淡蓝色变为砖红色,可以断定反应基本到达终点。与斐林试剂法、班氏试剂法和托伦试剂法等常用的鉴定方法相比较,所用的试剂易于配制、方便储存,放置3个月后仍然可以正常使用;该方法操作简单,现象明显,不受干扰,大约2 m in就可以获得实验结果。 井涛 张忠诚 刘嘉丽 侯萍萍关键词:烷基糖苷 乙二胺四乙酸 葡萄糖 正丁基葡萄糖苷的合成与表征 正丁基葡萄糖苷(简称丁基糖苷)属于短碳链烷基糖苷,是两步法合成长碳链烷基糖苷的重要中间体。本文主要讨论了丁基糖苷合成和精制过程中的各种影响因素,优化了工艺条件,并对最终产品进行了表征;另外,利用化工流程模拟软件Aspen... 井涛关键词:葡萄糖 正丁醇 合成工艺 文献传递 弱碱性条件下紫铜化学抛光新工艺 被引量:1 2007年 开发出了弱碱性溶液中紫铜化学抛光新工艺,确定了抛光液中的光亮剂(包括缓蚀剂和表面活性剂).经过一系列正交实验,获得了最佳工艺条件,并分析了影响抛光效果的各种因素.该工艺抛光速度快、腐蚀性低、环境污染小、成本低. 井涛 张忠诚 李广武 赵芳关键词:紫铜 光亮剂 缓蚀剂 表面活性剂 FeCl_3–HCl体系紫铜化学抛光工艺的探讨 被引量:2 2007年 研究了紫铜在FeCl3–HCl微酸性体系中化学抛光的工艺。介绍了该化学抛光工艺的流程及各前、后处理工序的配方。通过筛选实验,确定抛光液中光亮剂为脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-9),辅助光亮剂为乙醇,缓蚀剂为苯并三氮唑(BTA)。采用正交试验,得到最佳化学抛光液配方为:每100mL抛光液中含8g FeCl3,8mL盐酸,0.1 mLAEO-9,0.2g BTA,1.2mL乙醇。最佳抛光温度为30°C左右。根据正交试验结果,讨论了抛光液组成及温度对抛光效果的影响。各因素对抛光效果的影响作用由大到小依次为:抛光液温度>FeCl3质量浓度>AEO-9体积分数或BTA质量浓度>乙醇体积分数>盐酸体积分数。该工艺操作简单,抛光速度快,效果好,低污染,易于推广。 张忠诚 井涛 付莹莹 熊丽君关键词:紫铜 化学抛光工艺 光亮剂 缓蚀剂 FECL3 BTA