许龙
- 作品数：4 被引量：19H指数：2
- 供职机构：贵州大学更多>>
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- 相关领域：轻工技术与工程理学农业科学医药卫生更多>>
- 温敏型硫辛酸印迹聚合物的合成及缓释性能研究
- 本论文以享有“万能抗氧化剂”之称的α-硫辛酸(ALA)为模板分子，制备了对ALA具有特异性吸附的分子印迹聚合物(MIPs)，以吸附量为主要的考察指标，优化了ALA与CS的聚合比例。利用扫描电子显微镜和傅里叶变换红外光谱分...
- 许龙
- 关键词：Α-硫辛酸分子印迹聚合物分子识别缓释性能
- 天麻多糖的提取及其清除自由基作用研究被引量：8
- 2015年
- 基于单因素试验结果,利用响应面法(RSM)优化天麻多糖的超声波提取工艺,依据回归分析确定多糖提取率的影响因子,求得最佳浸提条件为:水料比40∶1,超声波输出功率75.70%,超声时间29.32min。采用分光光度法和化学发光法比较天麻多糖与3种天然抗氧化剂α-硫辛酸、Vc和VE对二苯代苦味肼基自由基(DPPH·)、超氧阴离子自由基(O_2^-·)、羟自由基(·OH)、过氧化氢(H_2O_2)以及过氧亚硝基阴离子(ONOO^-)的清除能力。结果表明,在0~500μg/m L质量浓度范围内,天麻多糖对DPPH·的清除率和α-硫辛酸的清除效果接近,强于VE,明显弱于Vc,最高清除率达到22.37%;对O_2^-·的清除能力强于Vc和VE,弱于α-硫辛酸,最高清除率达到12.23%;对·OH的清除能力弱于Vc,在400~500μg/m L质量浓度范围内清除率与α-硫辛酸、VE接近,最高清除率达到4.85%;对H_2O_2的清除能力强于α-硫辛酸,略弱于VE,明显弱于Vc,最高清除率达到25.80%;对ONOO^-的清除能力明显弱于α-硫辛酸和Vc,最高清除率达到20.52%。
- 许龙黄运安朱秋劲汪瑞敏叶春
- 关键词：响应面法天麻多糖清除自由基
- 基于壳聚糖的分子印迹聚合物的制备和应用被引量：10
- 2016年
- 壳聚糖具有良好的生物相容性和独特的分子结构,基于其制备的分子印迹聚合物因亲和性和选择性高、应用范围广等特点引起了广泛的关注。本文首先总结了壳聚糖和改性壳聚糖在分子印迹聚合物制备中的作用,然后介绍了壳聚糖分子印迹聚合物在环境污染治理、医药、蛋白质分离与识别、手性物质分离以及吸附功能成分等方面的应用,分析了壳聚糖分子印迹聚合物在各个应用领域的优缺点及发展方向。最后,从发展绿色分子印迹技术以及分子印迹技术与电化学传感器结合等层面对壳聚糖分子印迹聚合物的应用前景进行了展望。
- 许龙黄运安朱秋劲叶春
- 关键词：壳聚糖分子印迹技术生物相容性
- 抗氧化温敏型硫辛酸分子印迹聚合物的研究动态被引量：1
- 2013年
- α-硫辛酸(ALA)及其还原态二氢硫辛酸(DHLA)在生物体内的转化过程组成了良好的自由基清除剂,壳聚糖(CS)具有良好的成膜性能和生物相容性。以ALA/DHLA为模板分子,CS为功能单体,制备温敏型ALA-CS分子印迹聚合物(MIPs)膜或将其固载于塑料膜中,可以有效发挥温敏型化合物的特性,开发防止或延缓食品劣变的活性包装材料。本文综述了基于分子印迹膜的抗氧化型包装材料的研究进展,并对其未来发展进行了展望。
- 朱秋劲张进张孝刚许龙黄丹丹叶春陆宽
- 关键词：硫辛酸分子印迹聚合物缓释
