章新栾
- 作品数：4 被引量：0H指数：0
- 供职机构：南京大学电子科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信更多>>
- 掺铒Al_2O_3/Si多层薄膜中纳米晶Si的形成和敏化效应
- 2011年
- 采用脉冲激光沉积制备了掺铒Al2O3/Si多层薄膜,在淀积过程中脉冲激光溅射产生的高能量Er原子渗透进入非晶硅层,并引入了额外的应力,在低退火温度下诱导形成纳米晶Si。利用纳米晶Si作为敏化剂有效地增强了Er3+在Al2O3中的光致发光。样品微观结构和发光强度的关系表明,获得高密度和小尺寸的纳米晶Si和Er3+处于良好的发光环境是实现优化发光的关键,最优化的Er3+发光强度在退火温度为600℃的条件下得到。
- 章新栾王军转杨森林杨明珠陆昉施毅郑有炓
- 关键词：ER3+光致发光
- 掺铒氧化铝/硅多层薄膜发光特征的研究
- 铒离子内层4f电子的发光波长位于1.54μm，该波长对应于石英光纤的最小损耗窗口，因此硅基掺铒发光薄膜在光互连和光电集成方面的应用引起了很大的研究兴趣。以纳米晶硅为感光剂来增强铒离子的发光得到广泛的研究，通常需要一个较高...
- 章新栾
- 关键词：纳米硅脉冲激光沉积铒离子氧化铝表面等离激元
- 掺铒Si/Al2O3多层结构中结晶形态对1.54μm发光的影响
- 2009年
- 利用脉冲激光沉积的方法制备掺铒Si/Al2O3多层结构薄膜,获得了由纳米结构的Si作为感光剂增强的Er3+在1.54μm高效发光.利用拉曼散射、高分辨透射电镜和光致发光测量研究了在不同退火温度下(600—1000℃)纳米结构Si层的结晶形态变化,及对Er3+在1.54μm的发光的影响特征.研究发现最佳发光是在退火温度600—700℃.在这个条件下纳米Si的尺寸和密度,Si和Er的作用距离以及Er3+发光的化学环境得到了优化.进一步,光致发光瞬态衰减谱研究表明,当纳米Si尺寸小时,衰减遵循单指数模式(慢过程),当纳米Si尺寸大时,衰减遵循双指数模式(快过程和慢过程),其中衰减中快过程来自类体Si的对激发态Er3+去激发过程,慢过程对应典型的纳米Si体系衰减过程.
- 王军转石卓琼娄昊楠章新栾左则文濮林马恩张荣郑有炓陆昉施毅
- 关键词：铒纳米硅
- 掺铒Si/AL2O3多层膜发光性质的研究
- Er3+内层4f壳层由于受到外5s25p6壳层的屏蔽作用，其1.54μm的发光几乎不受基质材料的影响，且该波长对应于石英光纤的最小吸收窗口，在光通讯中有重要的应用。因为纳米Si光吸收截面比Er3+高出4-5个数量级，所以...
- 章新栾石卓琼王军转杨森林濮林张荣郑有炓施毅
- 关键词：石英光纤多层膜
- 文献传递
