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刘大为

作品数：9 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 9篇中文专利

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 7篇磁控
  • 5篇离子枪
  • 5篇离子束
  • 5篇溅射
  • 5篇磁控溅射靶
  • 3篇真空测量
  • 3篇热绝缘材料
  • 3篇耐热
  • 3篇耐热绝缘材料
  • 3篇绝缘
  • 3篇绝缘材料
  • 3篇磁钢
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜设备
  • 2篇无氧铜
  • 2篇联接螺栓
  • 2篇螺栓
  • 2篇粉末颗粒
  • 2篇靶面
  • 1篇真空抽气

机构

  • 9篇中国科学院

作者

  • 9篇冯彬
  • 9篇刘大为
  • 7篇鲁向群
  • 6篇刘丽华
  • 6篇佟辉
  • 4篇金振奎
  • 3篇郭东民
  • 3篇周颖
  • 2篇张宁
  • 2篇王维
  • 2篇孟凡利
  • 2篇李伟
  • 1篇孙荣昌
  • 1篇周景玉
  • 1篇戚晖
  • 1篇李求恕
  • 1篇谭亮
  • 1篇曾志群
  • 1篇潘福全
  • 1篇石长友

年份

  • 2篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2000
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
一种磁控溅射靶
本发明公开一种可以溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无...
冯彬鲁向群佟辉刘大为周颖刘丽华
超高真空多功能磁控溅射装置
本实用新型涉及一种超高真空多功能磁控溅射装置。由主溅射室、进样室、磁力传动机构、超高真空抽气装置和高真空抽气分子泵组成,其中主溅射室为梨形结构,由圆柱形真空室配装一“梨把”,“梨把”下面加装一套超高真空抽气装置,进样室为...
李求恕冯彬阎佐健鲁向群吕祺金振奎刘大为刘军戚晖孙荣昌魏吉萍曾志群潘福全郭宝英石长友谭亮周景玉
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一种磁控溅射靶
本发明公开一种可以溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无...
冯彬鲁向群佟辉刘大为周颖刘丽华
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一种磁控与离子束复合溅射沉积系统
本发明公开一种磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和离子束室...
郭东民佟辉冯彬刘大为鲁向群金振奎刘丽华
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双室磁控与离子束复合溅射沉积系统
本实用新型公开一种双室磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和...
郭东民佟辉冯彬刘大为鲁向群金振奎刘丽华
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一种粉末镀膜设备
一种粉末镀膜设备，属于镀膜设备技术领域。包括真空室、热丝电极、磁控靶、多工位转靶、离子枪及反弹振动装置，所述真空室内反弹振动装置的样品盘上方设置热丝电极、磁控靶、多工位转靶及离子枪，离子枪的离子束通过多工位转靶的靶面反射...
冯彬张宁刘大为王维李伟孟凡利
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用于溅射磁性材料的磁控靶
本实用新型公开一种用于溅射磁性材料的磁控靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无氧铜，中心放内磁...
冯彬鲁向群佟辉刘大为周颖刘丽华
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一种磁控与离子束复合溅射沉积系统
本发明公开一种磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和离子束室...
郭东民佟辉冯彬刘大为鲁向群金振奎刘丽华
粉末镀膜设备
一种粉末镀膜设备，属于镀膜设备技术领域。包括真空室、热丝电极、磁控靶、多工位转靶、离子枪及反弹振动装置，所述真空室内反弹振动装置的样品盘上方设置热丝电极、磁控靶、多工位转靶及离子枪，离子枪的离子束通过多工位转靶的靶面反射...
冯彬张宁刘大为王维李伟孟凡利
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