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文献类型

  • 13篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 9篇电子电信
  • 5篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 12篇纳米
  • 8篇溅射
  • 8篇磁控
  • 7篇纳米线
  • 7篇GAN纳米线
  • 7篇磁控溅射
  • 6篇氨化SI基
  • 6篇GA
  • 5篇纳米棒
  • 5篇氨化
  • 5篇GAN
  • 4篇氮化镓
  • 4篇GAN纳米棒
  • 3篇单晶
  • 3篇发光
  • 3篇氨化法
  • 2篇氮化
  • 2篇光致
  • 2篇光致发光
  • 2篇CO

机构

  • 14篇山东师范大学
  • 2篇济南大学

作者

  • 14篇秦丽霞
  • 13篇薛成山
  • 12篇陈金华
  • 12篇庄惠照
  • 11篇杨兆柱
  • 11篇李红
  • 3篇王福学
  • 3篇艾玉杰
  • 3篇王邹平
  • 2篇王公堂
  • 2篇孙莉莉
  • 2篇孙传伟
  • 2篇张晓凯
  • 1篇黄英龙
  • 1篇张冬冬
  • 1篇庄慧照
  • 1篇王英
  • 1篇杨昭柱
  • 1篇孙丽丽

传媒

  • 5篇功能材料
  • 3篇稀有金属材料...
  • 2篇微细加工技术
  • 1篇Journa...
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2009
  • 8篇2008
  • 4篇2007
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
钽催化磁控溅射法制备GaN纳米线(英文)被引量:4
2009年
利用磁控溅射技术通过氨化Ga2O3/Ta薄膜,合成大量的一维单晶纤锌矿型氮化镓纳米线。用X射线衍射、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜,选区电子衍射和光致发光谱对制备的氮化镓进行了表征。结果表明:制备的GaN纳米线是六方纤锌矿结构,其直径大约20~60nm,其最大长度可达10μm左右。室温下光致发光谱测试发现363nm处的较强紫外发光峰。另外,简单讨论了氮化镓纳米线的生长机制。
薛成山李红庄惠照陈金华杨兆柱秦丽霞王英王邹平
关键词:氮化物溅射
磁控溅射和氨化法生长GaN纳米棒及其特性被引量:1
2008年
使用一种新奇的稀土元素铽(Tb)作催化剂,通过氨化磁控溅射在Si(111)衬底上的Ga2O3/Tb薄膜,合成了大量的GaN纳米棒,氨化温度为950℃,氨化时间为15min。该方法可以进行持续合成且制备的GaN纳米棒纯度较高、成本低廉。实验后分别用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和X射线光电子能谱(XPS)对样品进行了结构、表面形态和成分测试。通过XRD和XPS测试分析,合成的纳米棒具有六方纤锌矿GaN结构;通过SEM、TEM和HRTEM观察分析得出合成的纳米棒为单晶GaN纳米棒。简单讨论了GaN纳米棒的生长机制。
薛成山陈金华庄惠照秦丽霞李红杨兆柱王邹平
关键词:氮化镓溅射纳米棒单晶
Mg_3N_2 粉末的合成和光致发光性质研究(英文)
2007年
Mg粉在800℃氨气流中氨化60min,可得到高质量的Mg3N2粉末。XRD分析表明,Mg3N2粉末是体心立方结构,晶格常数a=0.99657nm。SEM分析表明,Mg3N2粉末有多种形貌。PL测试表明,在激发波长为490nm的情况下,氮化镁粉末存在1个位于545nm的绿光发光峰。
薛成山艾玉杰孙莉莉孙传伟庄惠照王福学杨兆柱秦丽霞陈金华李红
关键词:氮化光致发光
氨化硅基磁控溅射Ga/_2O/_3//Co薄膜制备GaN纳米结构和薄膜的研究
以氮化镓/(GaN/)为代表的Ⅲ-Ⅴ族氮化物作为第三代半导体材料,由于在蓝光二极管、紫外探测器和短波长激光器等固体光电子器件方面的产业化应用,成为近些年来持续的研究热点,其材料的光电性质得到了广泛的理论以及实验研究。相比...
秦丽霞
关键词:磁控溅射氨化技术GAN纳米结构
文献传递
氨化Si基Ga_2O_3/Co薄膜合成GaN纳米线及其表征(英文)被引量:3
2008年
采用磁控溅射技术先在Si衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在950℃下流动的氨气中进行氨化反应制备GaN纳米棒.应用X射线衍射、扫描电镜、傅里叶红外吸收光谱、选区电子衍射和高分辨透射电子显微镜对样品进行表征.结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米棒.观察发现纳米棒表面光滑.并讨论了GaN纳米棒的生长机制.
秦丽霞薛成山庄惠照杨兆柱陈金华李红
关键词:纳米棒晶体生长
氨化Si基Ga_2O_3/Co薄膜制备GaN纳米线被引量:1
2008年
采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化反应制备GaN薄膜。X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收光谱(FTIR)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)的分析结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线。通过扫描电镜(SEM)观察发现纳米线的形貌,纳米线的尺寸在50-200nm之间。
秦丽霞薛成山庄惠照陈金华李红杨兆柱
关键词:磁控溅射GAN纳米线CO
磁控溅射与氨化法催化合成GaN纳米棒被引量:1
2008年
使用一种新奇的稀土元素作为GaN纳米棒生长的催化剂,通过氨化溅射在Si(111)衬底上的Ga2O3/Tb薄膜成功合成了大规模的GaN纳米棒。采用扫描电子显微镜,X射线衍射,透射电子显微镜,高分辨透射电子显微镜和傅立叶红外吸收光谱来检测样品的形态,结构和成分。研究结果表明,合成的样品为六方纤锌矿结构的单晶GaN纳米棒。最后讨论了GaN纳米棒的生长机理。
陈金华薛成山庄惠照秦丽霞李红杨兆柱
关键词:纳米棒GAN溅射
氨化Si基Ga_2O_3/Ta薄膜制备GaN纳米线
2007年
利用磁控溅射技术在Si衬底上制备Ga2O3/Ta薄膜,然后在900℃、氨气中退火合成了大量的一维单晶氮化镓纳米线。用X射线衍射、扫描电子显微镜、傅里叶红外吸收光谱、透射电子显微镜、选区电子衍射和光致发光谱对制备的氮化镓进行了表征。结果表明,制备的GaN纳米线是六方纤锌矿结构,其直径大约为50 nm,最大长度可达8μm左右。室温下光致发光谱的测试发现了364 nm处有较强紫外发光峰。
李红薛成山庄惠照张晓凯陈金华杨兆柱秦丽霞
关键词:氮化镓纳米线
GaN纳米棒的催化合成及其发光特性(英文)被引量:4
2008年
使用稀土元素Tb作催化剂,通过氨化溅射在Si(111)衬底上的Ga2O3/Tb薄膜,成功制备出GaN纳米棒.X射线衍射测试显示,GaN纳米棒具有六方结构.利用扫描电子显微镜和高分辨透射电子显微镜观察分析得出,纳米棒为单晶GaN,纳米棒的直径为50-150nm,长度约10μm.光致发光谱在368.6nm处有一强的紫外发光峰,说明纳米棒具有良好的发光特性.讨论了GaN纳米棒的生长机制.
陈金华薛成山庄惠照李红秦丽霞杨兆柱
关键词:GAN纳米棒单晶发光
氨化Si基Ga_2O_3/V薄膜制备GaN纳米线
2008年
为了制备高质量的GaN纳米结构,采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/V薄膜,然后在流动的氨气中进行氨化反应,成功制备出GaN纳米线。采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)对样品进行分析。研究结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN纳米线,且900℃时制备的纳米线质量最好,直径在60nm左右,长度达到十几微米。
杨兆柱薛成山庄惠照王公堂秦丽霞李红陈金华黄英龙张冬冬
关键词:GANV纳米线
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