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李展

作品数：56 被引量：155H指数：8
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家重点实验室开放基金中国科学院知识创新工程中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域：电子电信机械工程理学航空宇航科学技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 34篇期刊文章
  • 20篇专利
  • 2篇会议论文

领域

  • 18篇电子电信
  • 8篇机械工程
  • 7篇理学
  • 5篇航空宇航科学...
  • 5篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 20篇原子
  • 20篇光刻
  • 17篇原子束
  • 16篇光学
  • 8篇衍射
  • 7篇星敏感器
  • 7篇敏感器
  • 7篇纳米
  • 7篇激光
  • 7篇光刻物镜
  • 6篇投影光刻
  • 6篇驻波场
  • 6篇微细图形
  • 6篇发生器
  • 5篇衍射光学
  • 5篇原子光刻
  • 5篇物镜
  • 5篇光学元件
  • 5篇分辨力
  • 4篇原子光学

机构

  • 56篇中国科学院
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇四川大学
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 56篇李展
  • 32篇陈旭南
  • 22篇陈献忠
  • 21篇姚汉民
  • 18篇陈元培
  • 17篇罗先刚
  • 12篇高洪涛
  • 12篇石建平
  • 5篇杜春雷
  • 5篇袁家虎
  • 4篇卢卫
  • 4篇林大键
  • 4篇康西巧
  • 4篇周崇喜
  • 3篇白临波
  • 3篇魏全忠
  • 3篇何上封
  • 3篇郭履容
  • 3篇田宏
  • 2篇张嵬

传媒

  • 10篇光电工程
  • 4篇微细加工技术
  • 3篇光学学报
  • 3篇光子学报
  • 3篇微纳电子技术
  • 2篇光学精密工程
  • 2篇激光杂志
  • 1篇光电子．激光
  • 1篇物理
  • 1篇中国激光
  • 1篇科技开发动态
  • 1篇导弹与航天运...
  • 1篇光学仪器
  • 1篇空间电子技术
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇中国微米/纳...

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2006
  • 3篇2005
  • 6篇2004
  • 12篇2003
  • 10篇2002
  • 8篇2001
  • 6篇2000
  • 1篇1999
  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 4篇1996
  • 1篇1995
共 56 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
星敏感器遮光罩的优化设计被引量：9
2002年
在 CCD星敏感器中 ,CCD像面的背景噪声严重地影响了星点提取的准确性 ,要降低背景噪声就必须对杂光进行有效地消除 ,所以 CCD星敏感器中的遮光罩起着重要的作用。针对这一问题 ,对遮光罩的设计作了进一步的分析和研究。
卢卫李展
关键词：星敏感器遮光罩优化设计姿态传感器背景噪声
原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立被引量：1
2004年
原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.
陈献忠姚汉民陈旭南李展陈元培高洪涛石建平
关键词：原子光刻原子光学微细加工技术
一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置
一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置，由真空室、亚稳态原子发生器、漏勺、平板电极、光阑、激光束、平面反射镜和工件台等构成，它利用带有小孔的光阑对亚稳态原子流进行准直，形成平行原子束，利用激光驻波场使亚稳态原子束形成横向...
陈献忠姚汉民陈旭南石建平李展高洪涛陈元培
文献传递
投影光刻成像相移滤波装置
本发明是一种投影光刻成像相移滤波装置,由照明光源、聚光镜组、成像物镜及硅片等构成,其特征是在投影光刻物镜的光瞳面位置,放置对成像光可进行相移滤波的完全透光相移滤波板,既保证成像光不受阻挡,又能提高像对比度,进一步挖掘短波...
陈旭南罗先刚姚汉民李展康西巧
文献传递
相移滤波提高超微细图形成像光刻分辨力研究
为进一步提高大数值孔径投影成像系统的光刻分辨力和焦深,同时针对振幅型滤波光能量利用率低的缺点,详细研究了相移滤波高分辨力大焦深的基本理论,给出相移滤波数理模型,进行模拟计算分析,根据不同的掩模图形设计制作不同的最优相移滤...
陈旭南康西巧罗先刚石建平姚汉民李展
关键词：光能利用率分辨力焦深
文献传递
节料型原子束发生器
节料型原子束发生器主要由坩埚，坩埚内芯，内外加热体的双加热坩埚炉，以及炉底板，隔热套，真空腔体等部分组成。原子束通过坩埚内芯和坩埚二个喷射口喷入真空腔内，由坩埚内芯喷射出的大部分原子因发散角较大，未能通过坩埚第二个喷射口...
陈旭南姚汉民李展罗先刚石建平陈献忠陈元培高洪涛秦涛
文献传递
纳米加工中的光驻波场研究被引量：3
2000年
介绍了纳米加工中的光驻波场 ,分别对单反射面和双反射面形成的驻波进行了分析 ,并对不同区域的光强分布进行了理论推导。最后对如何形成高质量的光驻波场进行了探讨。
陈献忠姚汉民李展陈元培罗先刚康西巧
关键词：光强分布光场
纳米光刻技术的现状和未来被引量：12
2002年
纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重要的应用前景 .文章对光学光刻技术进行了概述 ,介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题 。
陈献忠姚汉民陈旭南李展罗先刚
关键词：纳米光刻纳米结构制作纳米材料
一种星敏感器遮光罩及其设计方法
一种星敏感器遮光罩由一级消光部分和二级消光部分连接而成，一级消光部分为高反射率的锥面或吸收锥面，作用是使进入的杂光首先是大部分被反射出去或被吸收，进入二级消光部分的只是一小部分散射光线；二级消光部分为吸收锥面，这些光线二...
卢卫李展
文献传递
温度气压对高分辨力光刻物镜像质影响研究
2000年
分析温度气压对物镜光学材料、透镜厚度间隔 ,以及空气折射率的影响 ,并用空气折射率对物镜像质影响进行模拟计算。研究表明物镜焦面产生较大漂移 ,对倍率有一定影响 ,而对畸变影响较小 ,指出对物镜进行温度气压控制补偿是必要的。
陈旭南罗先刚李展余国彬
关键词：光刻物镜高分辨率像质集成电路
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