张东亮 作品数:3 被引量:6 H指数:2 供职机构: 中国科学院半导体研究所 更多>> 发文基金: 国家高技术研究发展计划 国家自然科学基金 国家重点基础研究发展计划 更多>> 相关领域: 电子电信 理学 更多>>
Ge(001)衬底上分子束外延生长高质量的Ge_(1-x)Sn_x合金 被引量:1 2013年 Ge1-xSnx是一种新型IV族合金材料,在光子学和微电子学器件研制中具有重要应用前景.本文使用低温分子束外延(MBE)法,在Ge(001)衬底上生长高质量的Ge1-xSnx合金,组分x分别为1.5%,2.4%,2.8%,5.3%和14%,采用高分辨X射线衍射(HR-XRD)、卢瑟福背散射谱(RBS)和透射电子显微镜(TEM)等方法表征Ge1-xSnx合金的材料质量.对于低Sn组分(x5.3%)的样品,Ge1-xSnx合金的晶体质量非常好,RBS的沟道/随机产额比(χmin)只有5.0%,HR-XRD曲线中Ge1-xSnx衍射峰的半高全宽(FWHM)仅100″左右.对于x=14%的样品,Ge1-xSnx合金的晶体质量相对差一些,FWHM=264.6″. 苏少坚 张东亮 张广泽 薛春来 成步文 王启明关键词:锗 分子束外延 GeSn合金的晶格常数对Vegard定律的偏离 被引量:2 2012年 在Si(001)衬底上,以高质量的弛豫Ge薄膜作为缓冲层,先后生长Sn组分x分别为2.5%,5.2%和7.8%的完全应变的三层Ge_(1-x)Sn_x合金薄膜.在Si(001)衬底上直接生长了x分别为0.005,0.016,0.044,0.070和0.155的五个弛豫Ge_(1-x)Sn_x样品.通过卢瑟福背散射谱、高分辨X射线衍射和X射线倒易空间图等方法测量了Ge_(1-x)Sn_x合金的组分与晶格常数.实验得到的晶格常数相对Vegard定律具有较大的正偏离,弯曲系数b=0.211 A. 苏少坚 成步文 薛春来 张东亮 张广泽 王启明关键词:晶格常数 硅基IV族光电器件研究进展(二)——光电探测器 被引量:3 2014年 基于Ge、GeSn等IV族材料的硅基探测器与Si CMOS工艺兼容性好,成本低廉,并且易于与硅基波导器件集成,因而具有非常重要的应用价值。介绍了中国科学院半导体研究所在相关硅基IV族合金材料外延制备及相关器件方面的研究,重点介绍在硅基Ge面入射探测器、波导型探测器、吸收电荷倍增分离型(SACM)结构雪崩光电探测器以及GeSn光电探测器方面的一些研究进展。 李冲 张东亮 薛春来 李传波 成步文 王启明关键词:探测器 光电探测器 光学器件