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余永森

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇火焰水解法
  • 1篇半导体
  • 1篇玻璃态

机构

  • 1篇吉林大学

作者

  • 1篇余永森
  • 1篇刘国范
  • 1篇卓仲畅
  • 1篇吴远大
  • 1篇邢华
  • 1篇张玉书
  • 1篇郑伟

传媒

  • 1篇吉林大学自然...

年份

  • 1篇2001
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
二氧化硅厚膜材料的快速生长及其致密化处理被引量：4
2001年
采用火焰水解法 ( FHD)在 Si片上快速淀积出 Si O2 厚膜材料 ,材料膜厚 40 μm以上 ,生长速率 8μm/ min.将该材料分别在真空中和空气中高温致密化处理 ,获得各种形态的二氧化硅厚膜材料 .利用 XRD,SEM,电子显微镜等仪器对 Si O2
吴远大邢华卓仲畅余永森郑伟刘国范张玉书
关键词：火焰水解法玻璃态半导体
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