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厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院萨本栋微机电研究中心

作品数:75 被引量:380H指数:10
相关作者:冯勇健程未陈聪鹏滕建财杨涵更多>>
相关机构:福州大学物理与信息工程学院苏州市职业大学电子信息工程系福州大学物理与信息工程学院电子科学与技术系更多>>
发文基金:国家自然科学基金福建省自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学自动化与计算机技术电气工程更多>>

文献类型

  • 57篇期刊文章
  • 18篇会议论文

领域

  • 39篇电子电信
  • 14篇理学
  • 13篇自动化与计算...
  • 8篇电气工程
  • 7篇一般工业技术
  • 5篇机械工程
  • 4篇化学工程
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 12篇微机电系统
  • 12篇机电系统
  • 12篇电系统
  • 11篇溅射
  • 10篇感器
  • 10篇传感
  • 10篇传感器
  • 9篇开关
  • 9篇MEMS
  • 9篇磁控
  • 9篇磁控溅射
  • 7篇电路
  • 7篇射频MEMS...
  • 6篇氮化硅
  • 5篇氮化硅薄膜
  • 5篇湿法腐蚀
  • 5篇牺牲层
  • 5篇硅薄膜
  • 4篇亚胺
  • 4篇射频

机构

  • 75篇厦门大学
  • 11篇福州大学
  • 5篇苏州市职业大...
  • 3篇新加坡国立大...
  • 2篇南京邮电大学
  • 1篇华侨大学
  • 1篇南京理工大学
  • 1篇安徽建筑工业...
  • 1篇西安交通大学
  • 1篇天津大学
  • 1篇浙江万里学院
  • 1篇中国科学院

作者

  • 18篇吴孙桃
  • 18篇郭航
  • 15篇罗仲梓
  • 12篇于映
  • 11篇李静
  • 9篇冯勇建
  • 7篇吴清鑫
  • 6篇陈光红
  • 6篇张春权
  • 4篇林凡
  • 4篇郭东辉
  • 3篇滕建财
  • 3篇曾毅波
  • 3篇王盛贵
  • 3篇程未
  • 3篇冯海玉
  • 3篇孙宏明
  • 3篇叶建辉
  • 3篇张翊
  • 3篇郑志霞

传媒

  • 9篇微纳电子技术
  • 8篇传感技术学报
  • 5篇光学精密工程
  • 5篇功能材料与器...
  • 4篇厦门大学学报...
  • 3篇功能材料
  • 3篇中国微米/纳...
  • 2篇中国仪器仪表
  • 2篇仪表技术与传...
  • 2篇现代电子技术
  • 2篇2008年全...
  • 2篇第11届全国...
  • 2篇第八届中国微...
  • 2篇第九届全国敏...
  • 2篇中国微米纳米...
  • 1篇电化学
  • 1篇传感器技术
  • 1篇半导体技术
  • 1篇光学学报
  • 1篇微电子学与计...

年份

  • 2篇2012
  • 1篇2010
  • 13篇2009
  • 17篇2008
  • 7篇2007
  • 6篇2006
  • 8篇2005
  • 6篇2004
  • 15篇2003
75 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
TMAH单晶硅腐蚀特性研究被引量:16
2003年
TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最重要的是TMAH与CMOS工艺相兼容,符合SOC的发展趋势。TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现MEMS工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。本文着重介绍了TMAH的特性、工艺条件及应用。
邓俊泳冯勇建
关键词:TMAH单晶硅各向异性腐蚀微机电系统
氮化硅薄膜力学性能的研究及其在射频MEMS开关中的应用
氮化硅薄膜具有致密的结构、高强度和良好的耐磨性能,可用于MEMS器件中作为结构部件.本文采用PECVD法制备氮化硅薄膜,对氮化硅薄膜的杨氏模量和硬度进行了测试,并分析了沉积温度、反应气体流量比对薄膜杨氏模量和硬度的影响....
于映吴清鑫罗仲梓
关键词:氮化硅薄膜杨氏模量MEMS射频开关力学性能
文献传递
CMOS集成温度传感器的曲率校正电路的设计与研制
本文设计了一种用于CMOS集成温度传感器二次非线性项修正的曲率校正电路,该电路有效解决了CMOS温度传感电路中电阻温度系数和PN结电压二次非线性项对输出线性度的影响.分析了该曲率校正电路的理论原理,提出了相应的电路实现方...
林凡黄晅郭东辉吴孙桃
关键词:CMOS温度传感器校正电路
文献传递
超声技术在硅湿法腐蚀中的应用被引量:9
2009年
为了获得平滑的硅湿法腐蚀表面,在硅湿法腐蚀中引入超声技术。对超声湿法腐蚀系统进行了改进,以确保腐蚀溶液的顶部和底部温差在0.5℃之内。采用60℃,10%质量分数的KOH溶液,在超声频率为59kHz,超声功率为60~180w(间隔10W)条件下对(100)硅片进行湿法腐蚀。最后,运用激光共聚焦扫描显微镜(LSCM)对腐蚀后硅片表面粗糙度进行测量,并探讨超声参数的选择对腐蚀表面质量的影响。实验结果表明:超声功率在120W时,可以获得平滑的腐蚀表面,表面粗糙度Rq值为0.020um。在湿法腐蚀系统中采用超声技术,可以明显改善腐蚀表面质量,在较低温度和较低浓度的KOH溶液中,选择合适的超声参数可获得高品质的腐蚀表面。
曾毅波王凌云谷丹丹孙道恒
关键词:湿法腐蚀超声技术表面粗糙度激光共聚焦扫描显微镜微机电系统
氮化硅薄膜力学性能的研究及其在射频MEMS开关中的应用被引量:15
2006年
氮化硅薄膜具有致密的结构、高强度和良好的耐磨性能,可用于MEMS器件中作为结构部件.本文采用PECVD法制备氮化硅薄膜,对氮化硅薄膜的杨氏模量和硬度进行了测试,并分析了沉积温度、反应气体流量比对薄膜杨氏模量和硬度的影响.应用氮化硅薄膜作为悬梁,制作了射频MEMS开关.
于映吴清鑫罗仲梓
关键词:氮化硅薄膜杨氏模量MEMS射频开关
应用于超声共振检测的PZT/Si复合材料换能器被引量:1
2008年
提出并设计了一种应用于超声共振检测的PZT/Si复合材料圆片换能器。该换能器是将一小硅片粘贴在PZT压电片上复合而成,硅片中心已有一个应用MEMS技术加工制造的倒金字塔小坑。这使得待测样品很容易安装在超声共振谱检测的平台上,并能提高测量的精确度。文中利用ANSYS对该换能器和单独PZT-4压电片换能器进行比较分析,得出了不同结构在相同电压和外力作用下产生的静态位移结果以及共振频率,并讨论了复合结构参数对换能器工作灵敏度的影响。结果表明,复合换能器的灵敏度仅降低4%~4.8%,可以应用在超声共振谱检测中。
孙宏明张志强郭航
小型铷原子频标光谱灯的改进设计
主要研究了铷光谱灯的结构改进,铷光谱灯作为被动型铷原子频标的重要部件之一,对铷频标整机性能的影响很大。光谱灯结构主要包括铷灯泡、激励线圈和射频电路。铷光谱灯采用的是原子光谱技术中常用的无极放电方案,选取振荡电路的着眼点主...
徐加山卢露郭航
关键词:射频电路铷原子频标整机性能激励线圈
文献传递
湿法腐蚀后硅表面形态微结构的研究
2003年
随着半导体工艺集成度的不断提高及微纳米技术的发展,半导体硅材料的湿法腐蚀及腐蚀后硅表面的平整度及洁净度对半导体器件的影响越来越重要,有关此方面的研究也日益受到重视。本文利用扫描隧道显微镜(STM)技术,研究了Si(111)在几种不同比例的NH_4F-HCl溶液中腐蚀后的表面形态及洁净度。表面的STM图像分析,表明在较高pH值的NH_4F-HCl溶液中腐蚀的Si(111)表面粗糙度较小。
李静吴孙桃叶建辉S.F.Y.Li
关键词:湿法腐蚀微结构STM扫描隧道显微镜
悬空纳米间隔电极对的制备并应用于单分子电学性质测量
将普通光刻技术和电化学技术相结合,在微芯片上制备得到了机械可控断裂结法(MCBJ)所需的悬空纳米间隔金属电极对,并分别用热氧化二氧化硅和聚酰亚胺(PI)作为牺牲层使得电极对悬空,明显提高了可控断裂的实验成功率,并延长了微...
杨扬田景华罗仲梓吴孙桃田中群
关键词:分子电子学牺牲层微加工
文献传递
微机电系统(MEMS)中薄膜力学性能的研究被引量:1
2007年
主要介绍微机电系统(MEMS)中几种测量薄膜力学性能的方法,如纳米压入法、单轴拉伸法、基底弯曲法、微旋转结构法,比较了各种方法的优缺点。这对MEMS器件的设计与研究具有重要意义。
陈光红吴清鑫于映罗仲梓
关键词:力学性能MEMS
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