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上海传芯半导体有限公司

作品数：124 被引量：0H指数：0
相关机构：东海县奥博石英制品有限公司中国建筑材料科学研究总院有限公司华能(泰安)光电科技有限公司更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 123篇专利
  • 1篇标准

领域

  • 57篇电子电信
  • 10篇自动化与计算...
  • 5篇理学
  • 4篇金属学及工艺
  • 4篇文化科学
  • 3篇机械工程
  • 1篇经济管理
  • 1篇化学工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇建筑科学

主题

  • 74篇掩模
  • 49篇掩模版
  • 30篇光刻
  • 21篇光掩模
  • 17篇EUV
  • 16篇基板
  • 14篇激光
  • 14篇衬底
  • 12篇抛光
  • 10篇光刻工艺
  • 10篇反射率
  • 9篇透光
  • 9篇透射
  • 8篇掩膜
  • 8篇基底
  • 8篇光层
  • 8篇光刻设备
  • 7篇分辨率
  • 6篇平坦度
  • 6篇离子

机构

  • 124篇上海传芯半导...
  • 1篇山东省科学院
  • 1篇中国科学院上...
  • 1篇河源市信大石...
  • 1篇东旭集团有限...
  • 1篇杭州虹谱光色...
  • 1篇武汉锐科光纤...
  • 1篇长飞光纤光缆...
  • 1篇杭州永特信息...
  • 1篇内蒙古欧晶科...
  • 1篇深圳市路维光...
  • 1篇浙江浩锐石英...
  • 1篇江苏亨通光导...
  • 1篇中天科技精密...
  • 1篇江苏奥蓝工程...
  • 1篇深圳清溢光电...
  • 1篇中航复合材料...
  • 1篇华能(泰安)...
  • 1篇中国建筑材料...
  • 1篇东海县奥博石...

年份

  • 37篇2024
  • 39篇2023
  • 41篇2022
  • 7篇2021
共 124 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
EUV光掩模基版、EUV光掩模版及其制造方法、衬底回收方法
本发明提供了一种EUV光掩模基版、EUV光掩模版及其制造方法、基底，其在衬底上沉积反射堆栈层之前，先在衬底上旋涂碳材料来形成旋涂碳层，通过旋涂方法来形成的旋涂碳层具有深间隙填充能力、良好的热稳定性以及局部和全局的平面化能...
季明华黄早红
石英玻璃光谱透射比试验方法
本文件规定了石英玻璃光谱透射比试验方法的原理、仪器设备、试样、试验步骤、数据处理、试验报告。本文件适用于石英玻璃光谱透射比的测试，其他材料参照使用。
王京侠吴洁秦卫光张锦沈一春陈娅丽杜兴林欧阳琛于春花张祖义于天来聂兰舰符博刘焕敏李心意陈辰王一礴黄丽莎孔凡昌孙洋吴仪温冯涛曹海平赵培芝李弋舟李青熊启龙张磊闫大鹏彭志强秦敬凯刘军尚盈崔郁司继伟王友兵叶伟洋汤芳张浩运张春林钱宜刚回爽杨晓会凃昊赵奕泽顾海波胡恒广李榕郭浩林王雪明叶超祺杨学东
衬底回收方法、再生的光掩模基版及光掩模版的制造方法
本发明提供了一种衬底回收方法、再生的光掩模基版及光掩模版的制造方法，所述衬底回收方法用于对报废的光掩模版进行衬底回收，所述光掩模版包括衬底和形成于所述衬底上的掩模结构，所述衬底回收方法包括：提供一等离子体刻蚀系统；将所述...
季明华黄早红
修复方法及修复装置
本发明提供一种修复方法及修复装置。其中，所述修复方法是利用气流束中气流的冲击作用，向修复颗粒提供冲击动能，并在修复颗粒靠近待修复区域的表面时，采用激光将至少部分修复颗粒升华为气态和/或将其分化为尺寸更小的微颗粒，以使气态...
冯涛
相移光掩模结构及其制备方法
本发明提供一种相移光掩模结构及其制备方法，制备方法包括：提供一石英基底；通过第一阻挡层图形在石英基底中定义出相移区域；通过离子注入工艺将第一反应离子注入至石英基底的相移区域表层，第一反应离子与石英基底反应形成相移材料层，...
季明华黄早红任新平
刻蚀终点检测装置及方法
一种刻蚀终点检测装置及方法，该装置包括：光源、第一孔板、光分离器、第一聚焦透镜、第二孔板、第二聚焦透镜、第一光检测器、第二光检测器和控制器，光源提供的入射光经第一聚焦透镜和第一微孔后入射到光分离器被分离为透射光和第一反射...
陈昊金钟洙车翰宣
薄膜特性测量装置及方法
一种薄膜特性测量装置及方法，该装置包括：光源、光分离器、准直器、共聚焦显微镜、驱动器、第一光检测器、第二光检测器和控制器，光源的入射光经光分离器分离得到透射光照射至准直器后转换成平行光照射至共聚焦显微镜，共聚焦显微镜随驱...
车翰宣金钟洙王伟杰
涂胶装置及涂胶方法
一种涂胶装置及方法，该装置包括：罩壳、旋转卡盘和盖板，罩壳具有开口，旋转卡盘至少部分位于罩壳内，盖板于开口处与罩壳可拆卸连接，盖板包括由上至下依次设置的第一孔板、第二孔板和开合板组件，第一孔板具有圆弧十字形通孔；第二孔板...
车翰宣金钟洙陈昊
掩模衬底的抛光方法及抛光系统
本发明提供一种掩模衬底的抛光方法及抛光系统。其中，所述掩模衬底的抛光方法是采用无磨料的抛光液进行抛光，避免了磨料对掩模衬底的损伤。且在抛光之前，于掩模衬底的表面形成一层修复层，以利用修复层填补掩模衬底凹凸不平的表面，则在...
任雨萌季明华高世栋
EUV光刻设备及EUV光刻方法
本发明提供了一种EUV光刻设备及EUV光刻方法，其通过在晶圆上的光阻层经过亲水性表面处理的表面上冷凝水分来形成厚度较薄的一层水膜，由此利用水的折射率大于空气的特性来实现有效波长变短的效果，进而使得EUV光刻的图形分辨率和...
季明华黄早红任新平
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