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湖南德智新材料有限公司

作品数：92 被引量：0H指数：0
相关机构：江苏华兴激光科技有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司深圳市晶导电子有限公司更多>>
相关领域：金属学及工艺化学工程一般工业技术文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 73篇专利
  • 1篇标准

领域

  • 12篇金属学及工艺
  • 7篇化学工程
  • 6篇一般工业技术
  • 2篇电子电信
  • 1篇经济管理
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 23篇碳化硅
  • 16篇石墨
  • 16篇气相沉积
  • 12篇半导体
  • 11篇复合材料
  • 11篇复合材
  • 10篇碳化硅涂层
  • 9篇陶瓷
  • 9篇化学气相
  • 9篇化学气相沉积
  • 6篇纳米
  • 6篇过渡层
  • 6篇SIC涂层
  • 5篇涂层
  • 5篇复合材料技术
  • 4篇预制体
  • 4篇陶瓷材料
  • 4篇热膨胀
  • 4篇热膨胀系数
  • 4篇组件

机构

  • 74篇湖南德智新材...
  • 1篇有色金属技术...
  • 1篇哈尔滨科友半...
  • 1篇江苏芯梦半导...
  • 1篇深圳市深鸿盛...
  • 1篇天通银厦新材...
  • 1篇深圳市晶导电...
  • 1篇浙江金瑞泓科...
  • 1篇江苏华兴激光...

年份

  • 44篇2024
  • 1篇2023
  • 10篇2022
  • 6篇2021
  • 8篇2020
  • 5篇2019
共 92 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种用于蓝宝石衬底的碳化硅涂层及其制备方法
本发明公开了一种用于蓝宝石衬底的碳化硅涂层及其制备方法；一种用于蓝宝石衬底的碳化硅涂层，包括：所述碳化硅晶须结合在蓝宝石衬底的表面；在结合碳化硅晶须的蓝宝石衬底的表面，结合碳化硅涂层；所述碳化硅晶须镶嵌于碳化硅涂层中。本...
汪洋万强柴攀其他发明人请求不公开姓名
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一种表面SiC涂层石墨托盘的制备方法及应用
本发明提供一种表面SiC涂层石墨托盘的制备方法及其应用，包括以下步骤：(1)取石墨托盘作为基体；(2)利用含有NH<Sub>3</Sub>的气体对石墨托盘进行刻蚀处理；(3)对刻蚀后的石墨托盘表面进行吹扫，去除刻蚀后的残...
汪洋余盛杰潘影柴攀万强
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一种碳化硅外延晶片内外圆加工设备
本申请涉及碳化硅外延晶片加工技术领域，具体涉及一种碳化硅外延晶片内外圆加工设备，解决了对碳化硅外延晶片的外延层边缘超出部分加工时，无法兼顾加工精度和加工效率的问题。该加工设备包括固定座、移动板、第一刀具组、第二刀具组和定...
邱淋鹏廖家豪窦坤鹏柴攀万强
一种在石墨基材表面形成致密TaC涂层的方法
本发明公开了一种在石墨基材表面形成致密TaC涂层的方法，包括：(1)、将石墨基材加工、清洗，放入烘箱烘干备用；(2)、将TaC粉末、烧结助剂粉末、无水乙醇和金属盐化物混合搅拌均匀，配制成电泳悬浮液；(3)、将石墨基材放入...
余盛杰汪洋潘影刘佳宝柴攀万强
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一种CVD制备碳化硅陶瓷的方法
本发明公开了一种CVD制备碳化硅陶瓷的方法，包括以下步骤：(1)用石墨纸将石墨基体包裹起来，只暴露石墨基体的一面；(2)将经步骤(1)处理的石墨基体放入管式炉中，通入三氯甲基硅烷、氩气和氢气进行气相沉积；(3)除掉石墨基...
刘佳宝汪洋万强柴攀其他发明人请求不公开姓名
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一种复合层及其制备方法和复合材料
本发明涉及复合材料技术领域，提供了一种复合层及其制备方法和复合材料，该复合层的制备方法包括以下步骤：通过化学气相沉积法，在基体上沉积第一物质，得到第一预制体；然后沉积第二物质，得到第二预制体；然后沉积第三物质，得到复合层...
耿茂富廖家豪柴攀万强
一种陶瓷涂层
本实用新型公开了一种陶瓷涂层，所述陶瓷涂层由表及里依次包括：陶瓷层，所述陶瓷层为碳化硅涂层、氮化硅涂层、三氧化二铝涂层、氮化铝涂层中的一种；界面层，所述界面层由碳化硅颗粒、硅颗粒、金刚石颗粒其中的一种组成；衬底，所述衬底...
刘佳宝万强柴攀其他发明人请求不公开姓名
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一种Micro-LED用石墨基座加工方法
本发明提供了一种Micro‑LED用石墨基座加工方法，包括：石墨基座以及与石墨基座转动连接的石墨盘；石墨基座上周向设置有外圈口袋、内圈口袋；石墨基座上环向间隔设置有与多个外圈口袋位于同一轴线的外圈滑槽以及与多个内圈口袋位...
汪洋
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一种用于MOCVD设备的硅基托盘及制备方法
本发明公开了一种用于MOCVD设备的硅基托盘及制备方法，其包括构成托盘基材的Si基体和Si基体表面的复合涂层，所述复合涂层包括热解炭过渡层、Si基体与热解炭过渡层之间界面处的SiC界面层、以及最外层的SiC涂层，所述Si...
汪洋余盛杰刘佳宝柴攀万强
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一种CVD沉积炉装置
本实用新型提供了一种CVD沉积炉装置，包括沉积室、基座和进气组件，进气组件与沉积室连接，进气组件包括：进气管、分流球、3至11个分流管，分流管连接喷嘴。本实用新型提供的CVD沉积炉装置的有益效果在于：输入CVD沉积炉的源...
汪洋万强柴攀
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