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国家自然科学基金(10676008)
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刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
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刘效岩
供职机构:北京七星华创电子股份有限公司
研究主题:化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
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张伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:卫星电源 太阳电池阵 化学机械抛光 CMP 空间电源
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檀柏梅
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
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唐文栋
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 硬盘基板 化学机械抛光 粗糙度 浆料
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田军
供职机构:河北工业大学
研究主题:硬盘基板 CMP 粗糙度 计算机 去除速率
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苏艳勤
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP ULSI 表面粗糙度 碱性抛光液
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王立发
供职机构:中国电子科技集团第十三研究所
研究主题:CMP 化学机械抛光 粗糙度 T/R组件 硬盘基板
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武彩霞
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 ULSI 碱性抛光液
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