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浙江省科技计划项目(2009C21G2040066)

作品数:4 被引量:9H指数:2
相关作者:张海鹏齐瑞生王德君张帆陈波更多>>
相关机构:杭州电子科技大学大连理工大学杭州汉安半导体有限公司更多>>
发文基金:浙江省科技计划项目国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

领域

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主题

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机构

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资助

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地区

  • 6个浙江省
  • 1个辽宁省
7 条 记 录,以下是 1-7
张海鹏
供职机构:杭州电子科技大学
研究主题:沟道 SOI_LDMOS 氧化层 埋层 SOI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
齐瑞生
供职机构:杭州电子科技大学
研究主题:沟道 埋层 氧化层 阳极 金属电极
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王德君
供职机构:大连理工大学
研究主题:SIC MOSFET器件 碳化硅 4H-SIC 电子回旋共振
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许生根
供职机构:杭州电子科技大学
研究主题:沟道 埋层 氧化层 NLDMOS SOI_LDMOS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张帆
供职机构:杭州电子科技大学
研究主题:可信计算 多智能体系统 多智能体 无干扰 存储介质
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
苏步春
供职机构:杭州电子科技大学
研究主题:场板 SOI_LDMOS 沟道 氧化层 二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构:杭州电子科技大学
研究主题:SOI_LDMOS 沟道 槽栅 氧化层 跨导
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
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