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国家高技术研究发展计划(2007AA1416)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：付绍军洪义麟刘颖邱克强刘正坤更多>>
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地区

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共 7 条 记 录，以下是 1-7
刘正坤
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 软X射线 离子束刻蚀 衍射效率 全息
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘颖
供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付绍军
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周小为
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题：离子束刻蚀 衍射光学元件 大尺寸 衍射效率 刻蚀深度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐向东
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪义麟
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邱克强
供职机构：沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题：非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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