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国家科技重大专项(2011ZX02503)

作品数：4 被引量：7H指数：2
相关作者：翟媛张笑瑜郝明丽胡锦更多>>
相关机构：上海华虹宏力半导体制造有限公司湖南大学中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家科技重大专项湖南省科技计划项目更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术金属学及工艺更多>>

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地区

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上海华虹宏力半导体制造有限公司
研究主题：刻蚀 浮栅 介质层 晶圆 多晶硅
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
深圳尚阳通科技有限公司
研究主题：击穿电压 外延层 屏蔽 比导通电阻 功率器件
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
中国科学院微电子研究所
研究主题：半导体器件 衬底 沟道 半导体 刻蚀
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
湖南大学物理与微电子科学学院
研究主题：凝固过程 分子动力学模拟 分子动力学 大学物理 碳纳米管
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
湖南大学
研究主题：实证研究 商业银行 上市公司 性能研究 神经网络
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
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