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国家自然科学基金(69625710)

作品数：2 被引量：14H指数：2
相关作者：金春水曹健林王丽萍张立超更多>>
相关机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电路
  • 1篇软X射线
  • 1篇投影光刻
  • 1篇投影物镜
  • 1篇微缩
  • 1篇物镜
  • 1篇极紫外
  • 1篇极紫外投影光...
  • 1篇集成电路
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术
  • 1篇光学
  • 1篇光学设计

机构

  • 2篇中国科学院长...

作者

  • 2篇金春水
  • 1篇张立超
  • 1篇王丽萍
  • 1篇曹健林

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2000
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
软X射线投影光刻技术被引量：11
2000年
软 X射线投影光刻作为特征线宽小于 0 .1μm的集成电路制造技术 ,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视。随着用于软 X射线投影光刻的无污染激光等离子体光源、高分辨率大视场投影光学系统、无应力光学装调工艺、深亚纳米级镜面加工和多层膜制备、低缺陷反射式掩模、表面成像光刻胶。
金春水王占山曹健林
关键词：软X射线集成电路
极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计被引量：3
2007年
极紫外投影光刻(EUVL)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点,并依据有限距反射系统像差理论,从解析解出发,设计了两套平场两镜系统,分别用于对分辨力为70nm、无遮拦、环形视场扫描曝光系统及目前研制的EUVL32nm技术节点小视场曝光系统的研究。系统设计指标满足极紫外投影光刻要求。
王丽萍金春水张立超
关键词：极紫外投影光刻投影物镜光学设计光刻技术
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