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阙蔺兰

作品数：6 被引量：9H指数：2
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 12个电子电信
  • 5个化学工程
  • 5个自动化与计算...
  • 2个电气工程
  • 2个理学
  • 1个天文地球
  • 1个一般工业技术

主题

  • 10个电荷耦合
  • 10个电荷耦合器
  • 10个电荷耦合器件
  • 10个多晶
  • 10个多晶硅
  • 10个CCD
  • 9个氮化
  • 9个氮化硅
  • 9个淀积
  • 8个刻蚀
  • 7个低压化学气相...
  • 7个沾污
  • 7个铁离子
  • 7个气相淀积
  • 5个形貌
  • 5个氧化层
  • 5个栅介质
  • 5个图像
  • 5个图像传感器
  • 4个时间延迟积分

机构

  • 11个重庆光电技术...
  • 1个电子科技大学
  • 1个中国国防科技...

资助

  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家杰出青年...
  • 1个教育部“新世...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 12个半导体光电
  • 3个电子技术（上...
  • 2个电子科技
  • 2个2004全国...
  • 1个光电子．激光
  • 1个半导体情报
  • 1个物理学报
  • 1个材料导报
  • 1个物理化学学报
  • 1个中国科学（E...
  • 1个传感技术学报
  • 1个集成电路应用
  • 1个中国检验检测
  • 1个光电子
  • 1个第八届中国微...

地区

  • 11个重庆市
  • 1个北京市
共 12 条 记 录，以下是 1-10
廖乃镘
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 CCD 氢化非晶硅薄膜 非晶硅 A-SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗春林
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 多晶硅 硅片 CCD 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD TDI 高分辨率 可见光CCD 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李仁豪
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 TDI 读出电路 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向华兵
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD LPCVD 表面光电压 氮化硅 电荷耦合器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘昌林
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 光晕 晕结构 CCD图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
伍明娟
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 穿刺 铝 金属化 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟四成
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 减薄 成像 图像传感器 传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵志国
供职机构：中国国防科技信息中心
研究主题：表面光电压 氮化硅 铁离子 低压化学气相淀积 沾污
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向鹏飞
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 刻蚀 选择比 反应离子刻蚀 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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