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张佳磊

作品数：9 被引量：1H指数：1
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信文化科学机械工程电气工程更多>>

合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 4个文化科学
  • 3个自动化与计算...
  • 2个石油与天然气...
  • 2个机械工程
  • 2个建筑科学
  • 1个化学工程
  • 1个一般工业技术

主题

  • 5个外延片
  • 5个硅外延
  • 5个硅外延片
  • 5个过渡区
  • 4个电阻率
  • 4个英寸
  • 3个电路
  • 3个多晶
  • 3个氧化层
  • 3个石墨
  • 3个碳化
  • 3个碳化硅
  • 2个单片
  • 2个低阻
  • 2个底板
  • 2个电机
  • 2个电特性
  • 2个电学
  • 2个电学特性
  • 2个电阻

机构

  • 5个河北普兴电子...

资助

  • 1个河北省科技厅...

传媒

  • 4个半导体技术
  • 2个微纳电子技术
  • 1个中外企业家
  • 1个电子技术（上...
  • 1个清洗世界
  • 1个科技传播
  • 1个2011’全...
  • 1个2013‘全...

地区

  • 5个河北省
共 5 条 记 录，以下是 1-5
薛宏伟
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 硅外延片 电阻率 衬底 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张志勤
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 电阻率 衬底 薄层 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王铁刚
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：衬底 汞 封层 多晶 外延片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁肇耿
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 硅外延片 硅外延 外延层 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张双琴
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 硅外延 云雾 不均匀性 薄层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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