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耿阳

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供职机构:上海集成电路研发中心更多>>
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胡少坚
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:晶体管 漏极 刻蚀工艺 图像 场效应晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈寿面
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:晶体管 光刻 像元 电极 图像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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