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陈寿面

作品数：133 被引量：9H指数：2
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胡少坚
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：晶体管 漏极 刻蚀工艺 图像 场效应晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵宇航
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：图像传感器 像元 光敏元件 光刻 CMOS影像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李铭
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康晓旭
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：像元 红外探测器 衬底 牺牲层 微桥结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟旻
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：存储器单元 沟道 相变材料 相变 阻挡层
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耿阳
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：图像 接触电极 图像传感器 传感器结构 背栅
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王勇
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：麦克风 电容式 硅 天线 品质因子
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周伟
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：CMOS图像传感器 光电二极管 漏极 晶体管 刻蚀工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任铮
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：晶体管 跟随器 栅极 MOS晶体管 漏极
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郭奥
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：漏极 晶体管 源极 阵列结构 存储器单元
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