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刘慧勇

作品数：27 被引量：3H指数：1
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 6个电子电信
  • 3个理学
  • 2个自动化与计算...
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程

主题

  • 7个电流
  • 7个淀积
  • 6个电流密度
  • 6个电阻
  • 5个调结构
  • 5个氧化层
  • 5个栅极
  • 5个熔断
  • 5个熔丝
  • 5个截面积
  • 5个横截
  • 5个横截面积
  • 3个导体
  • 3个电极
  • 3个电路
  • 3个电容
  • 3个短路
  • 3个形貌
  • 3个压力传感器
  • 3个掩蔽层

机构

  • 7个杭州士兰集成...

资助

  • 1个国家科技重大...

传媒

  • 3个2014`全...
  • 2个半导体技术
  • 2个中国集成电路

地区

  • 7个浙江省
共 7 条 记 录，以下是 1-7
刘琛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：MEMS器件 外延层 发射区 介质层 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩健
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：IGBT器件 发射极 槽栅 发射区 反向二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
江宇雷
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：形貌 半导体器件 刻蚀 测试仪 氧化层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈文伟
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率器件 接触孔 淀积 套刻 槽栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
雷辉
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：淀积 电阻 电流密度 熔丝 熔断
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范伟宏
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：硅片 惯性传感器 深槽 传感器结构 布线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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