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李小锋

作品数：28 被引量：0H指数：0
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司更多>>
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合作作者

领域

  • 14个电子电信
  • 2个自动化与计算...
  • 2个理学
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程
  • 1个文化科学

主题

  • 9个外延层
  • 9个介质层
  • 8个发射区
  • 8个半导体
  • 7个电路
  • 7个淀积
  • 6个氮化硅
  • 6个氮化硅薄膜
  • 6个刻蚀
  • 6个硅薄膜
  • 5个电容
  • 5个掩膜
  • 5个氧化层
  • 5个氧化硅薄膜
  • 5个双极电路
  • 4个电极
  • 4个电容值
  • 4个电阻
  • 4个钝化层
  • 4个掩膜版

机构

  • 14个杭州士兰集成...
  • 1个杭州士兰微电...

资助

  • 1个国家科技重大...

传媒

  • 2个中国集成电路
  • 2个2014`全...
  • 1个半导体技术
  • 1个电子器件
  • 1个电子与封装

地区

  • 15个浙江省
共 15 条 记 录，以下是 1-10
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张佼佼
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：发射区 外延层 感应电荷 互连线 双极
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何金祥
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：感应电荷 发射区 互连线 双极 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨锐
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：感应电荷 发射区 互连线 双极 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩健
供职机构：杭州士兰微电子股份有限公司
研究主题：场区 BIPOLAR 隔离区 高压器件 钝化层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈元金
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：氧化硅薄膜 氮化硅薄膜 硅基底 淀积 BIPOLAR
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋敏
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：保护层 半导体器件 温度偏差 温度测试 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
苏兰娟
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：介质层 氧化层 报废率 半导体 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王铎
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：掺杂 发射区 二氧化硅 过渡区 调结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗宁
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：乙硼烷 掺硼 布线结构 保质期 半导体制程
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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