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杨师

作品数：13 被引量：22H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

领域

  • 13个电子电信
  • 4个自动化与计算...
  • 3个机械工程
  • 1个建筑科学

主题

  • 9个抛光
  • 7个化学机械抛光
  • 7个机械抛光
  • 7个CMP设备
  • 6个晶圆
  • 5个氮化镓
  • 5个电路
  • 5个平坦化
  • 5个化学机械平坦...
  • 5个集成电路
  • 4个优化设计
  • 4个抛光工艺
  • 4个晶片
  • 4个硅片
  • 4个仿真
  • 4个半导体
  • 4个PG
  • 3个有限元
  • 3个有限元分析
  • 3个兆声清洗

机构

  • 13个中国电子科技...
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 2个国家科技重大...
  • 1个国家高技术研...

传媒

  • 13个电子工业专用...
  • 1个半导体技术
  • 1个计算机测量与...
  • 1个科技资讯
共 13 条 记 录，以下是 1-10
史霄
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP CMP技术 氮化镓 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨元元
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊朋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP技术 氮化镓 化学机械抛光 晶片 抛光工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王铮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP技术 氮化镓 化学机械抛光 晶片 抛光工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
费玖海
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 温度控制 CMP工艺 PG
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王洪宇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：机械手 传输系统 硅片 机械手设计 LTCC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭春华
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP设备 工业泵 化学机械平坦化 湿法腐蚀 湿法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘雪娇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：军民融合发展 推广应用
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜家宏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 军民融合发展 稳定性 推广应用 液压技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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