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廖乃镘

作品数：32 被引量：78H指数：6
供职机构：重庆光电技术研究所更多>>
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蒋亚东
供职机构：电子科技大学
研究主题：基板 有机电致发光器件 柔性衬底 气体传感器 导电聚合物
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
研究主题：非晶硅 A-SI 氢化非晶硅薄膜 氢化非晶硅 微测辐射热计
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李世彬
供职机构：电子科技大学
研究主题：硅衬底 金属电极 太阳能电池 钙钛矿 吸收率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴志明
供职机构：电子科技大学
研究主题：氧化钒薄膜 太赫兹 微桥结构 磁控溅射 氧化钒
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李仁豪
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 TDI 读出电路 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗春林
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：电荷耦合器件 多晶硅 硅片 CCD 表面光电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
匡跃军
供职机构：电子科技大学光电信息学院
研究主题：氢化非晶硅 A-SI H 椭偏测量 氢化非晶硅薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
阙蔺兰
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：多晶硅 LPCVD CCD 电荷耦合器件 氮化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向华兵
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD LPCVD 表面光电压 氮化硅 电荷耦合器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曲鹏程
供职机构：重庆光电技术研究所
研究主题：CCD 电荷耦合器件 选择比 刻蚀 图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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