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陈涛

作品数：14 被引量：23H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术自动化与计算机技术电气工程更多>>

合作作者

领域

  • 10个电子电信
  • 4个电气工程
  • 4个一般工业技术
  • 3个机械工程
  • 2个自动化与计算...
  • 2个理学
  • 1个经济管理
  • 1个化学工程
  • 1个建筑科学

主题

  • 10个硅外延
  • 8个电阻率
  • 7个外延片
  • 6个外延层
  • 6个高阻
  • 6个硅外延片
  • 6个二极管
  • 5个势垒
  • 5个势垒电容
  • 5个外延炉
  • 5个肖特基
  • 5个肖特基二极管
  • 5个均匀性
  • 5个光电
  • 5个过渡区
  • 4个自掺杂
  • 3个低功耗
  • 3个探测器
  • 3个功耗
  • 3个光电探测

机构

  • 9个中国电子科技...
  • 1个中电集团
  • 1个天津计量监督...

资助

  • 1个国家自然科学...
  • 1个天津市科技计...
  • 1个天津市自然科...
  • 1个中央级公益性...

传媒

  • 6个科技创新与应...
  • 5个天津科技
  • 5个甘肃科技
  • 4个半导体技术
  • 4个电子元件与材...
  • 3个电子制作
  • 3个固体电子学研...
  • 3个科学技术与工...
  • 3个科技风
  • 2个材料导报
  • 2个工业计量
  • 1个硅酸盐通报
  • 1个国外电子测量...
  • 1个中国计量
  • 1个集成电路应用
  • 1个压电与声光
  • 1个微纳电子技术
  • 1个自动化应用
  • 1个科技经济导刊
  • 1个中国计量协会...

地区

  • 10个天津市
共 10 条 记 录，以下是 1-10
李明达
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：均匀性 硅外延 硅外延片 硅外延层 过渡区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛兵
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：过渡区 硅外延片 均匀性 硅外延层 硅外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李普生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：均匀性 硅外延层 硅外延 化学气相沉积 外延片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王文林
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 压电陶瓷材料 压电陶瓷 过渡区 吹扫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李杨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 PIN光电探测器 外延片 吹扫 P型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
边娜
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SPC 硅外延片 硅外延 电阻率 势垒电容
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
傅颖洁
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：高阻 一致性 衬底 材料加工工程 薄层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵新明
供职机构：天津计量监督检测科学研究院
研究主题：校准方法 钳形 校准 数字电压表 直流电位差计
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
居斌
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 电阻率 势垒电容
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
殷海丰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 自掺杂 硅外延材料 HVPE ALN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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