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王萍

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
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合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 1个电气工程

主题

  • 5个等离子体
  • 5个气相
  • 5个气相沉积
  • 5个化学气相
  • 5个化学气相沉积
  • 2个淀积
  • 2个生产型
  • 2个气相淀积
  • 2个自动控制
  • 2个自动控制系统
  • 2个刻蚀
  • 2个刻蚀机
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  • 1个导体
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  • 1个电路

机构

  • 5个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 2个信息产业部
  • 1个电子工业部
  • 1个中国电子科技...
  • 1个机电部

资助

  • 2个国家高技术研...
  • 1个国家电子信息...

传媒

  • 5个电子工业专用...
  • 1个微细加工技术
  • 1个新材料产业
  • 1个2003中国...

地区

  • 1个北京市
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范迎新
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：U 等离子体 气相淀积 微组装 化学气相沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨基南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：U MOCVD设备 等离子体 气相淀积 太阳能电池产业
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李学文
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：MOCVD设备 MOCVD 以太网 GAN生长 GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
廖佐昇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：化学气相沉积 气相 等离子体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所
研究主题：化学气相沉积 气相 等离子体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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