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闫锋
作品数:
25
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H指数:4
供职机构:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
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发文基金:
中国航空科学基金
西北工业大学基础研究基金
国防科技技术预先研究基金
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相关领域:
电子电信
一般工业技术
理学
电气工程
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合作作者
刘正堂
西北工业大学材料学院
郇正利
中国电子科技集团公司第四十六研...
王文林
中国电子科技集团公司第四十六研...
刘文婷
西北工业大学材料学院
刘其军
西南交通大学物理科学与技术学院
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刘正堂
供职机构:西北工业大学材料学院
研究主题:电子结构 第一性原理 第一性原理计算 射频磁控溅射 光学性质
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所获资助
研究领域
郇正利
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:压电陶瓷 压电性能 压电陶瓷材料 居里温度 激光陀螺
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王文林
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硅外延片 压电陶瓷材料 过渡区 压电陶瓷 吹扫
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刘文婷
供职机构:西安石油大学材料科学与工程学院
研究主题:射频磁控溅射 HFO2薄膜 磁控反应溅射 HFO 掺杂
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刘其军
供职机构:西南交通大学
研究主题:第一性原理 电子结构 第一性原理计算 光学性质 结构和光学性质
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李阳平
供职机构:西北工业大学
研究主题:反应离子刻蚀 射频磁控溅射 衬底 亚波长结构 计算机模拟
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许宁
供职机构:西北工业大学材料学院
研究主题:磁控反应溅射 沉积速率 HFO2薄膜 光学性能 HFO2
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赵海龙
供职机构:西北工业大学
研究主题:射频磁控溅射 GAP 溅射法制备 类金刚石薄膜 射频磁控
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鹿芹芹
供职机构:西北工业大学
研究主题:蛋白质结晶 成功率 蛋白质 生物大分子 晶体质量
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田浩
供职机构:西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室
研究主题:射频磁控溅射 磁控溅射 退火 溅射法制备 类金刚石薄膜
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