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王世援

作品数：5 被引量：7H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

领域

  • 12个电子电信
  • 8个理学
  • 5个冶金工程
  • 4个化学工程
  • 4个机械工程
  • 2个金属学及工艺
  • 1个动力工程及工...
  • 1个电气工程
  • 1个交通运输工程
  • 1个一般工业技术
  • 1个文化科学

主题

  • 10个单晶
  • 10个硅单晶
  • 7个晶向
  • 7个抗辐照
  • 7个抗辐照加固
  • 7个辐照加固
  • 6个直拉法
  • 6个位错
  • 6个SI单晶
  • 6个掺磷
  • 5个单晶炉
  • 5个单晶生长
  • 5个硅单晶生长
  • 4个适应性
  • 4个太阳能级
  • 4个碳复合材料
  • 4个硅片
  • 4个复合材料
  • 4个碳
  • 3个衍射

机构

  • 12个中国电子科技...
  • 2个天津大学
  • 2个中国电子科技...
  • 1个电子部
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个天津市自然科...
  • 3个国家部委资助...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 9个天津科技
  • 8个电子工业专用...
  • 7个半导体技术
  • 7个第十三届全国...
  • 2个电子工艺技术
  • 1个燃烧科学与技...
  • 1个Journa...
  • 1个车用发动机
  • 1个工程塑料应用
  • 1个实验力学
  • 1个现代塑料加工...
  • 1个内燃机工程
  • 1个天津大学学报...
  • 1个电源技术
  • 1个材料导报
  • 1个人工晶体学报
  • 1个半导体杂志
  • 1个光电子技术
  • 1个半导体光电
  • 1个天津大学学报

地区

  • 11个天津市
  • 1个北京市
共 12 条 记 录，以下是 1-10
刘锋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 直拉法 SI 锗 单晶生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩焕鹏
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶炉 晶片 单晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：汽油机 滚流 硅单晶 进气道 缸内
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王富田
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：掺磷 硅单晶生长 硅单晶 位错 抗辐照加固
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周传月
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 半导体 单晶炉 太阳能级 适应性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
栾国旗
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：多晶硅 提纯 真空 SIC 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴磊
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：C/C复合材料 碳 SI单晶 硅单晶 隔热材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
莫宇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 粗糙度 硅片 清洗液 超声波清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵光军
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抗辐照加固
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史继祥
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：少子寿命 电阻率 硼 晶向 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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共2页<12>
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