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黄子乾

作品数:12 被引量:14H指数:2
供职机构:南京电子器件研究所更多>>
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19 条 记 录,以下是 1-10
陈新宇
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:砷化镓 GAAS 开关 GAAS_MMIC 微波单片集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋幼泉
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:砷化镓 GAAS SIC_MESFET 单片 微波单片集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
潘彬
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:金属有机化合物气相淀积 ALGAAS 异质结双极晶体管 MOVPE GAAS_HBT
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张岚
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:金属有机化合物气相淀积 MOCVD生长 SEM 4H-SIC ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许正荣
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:砷化镓 GAAS_MMIC PIN二极管 单片 开关
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李肖
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:金属有机化合物气相淀积 氮化镓 ALGAN/GAN_HEMT 宽禁带 ALGAAS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李拂晓
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:砷化镓 GAAS 单片 开关 MESFET
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王向武
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:硅 硅外延 异质结 自掺杂 分子束外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨立杰
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:MMIC 砷化镓 GAAS 可变衰减器 相移
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋东铭
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:CMOS工艺 CMOS 低噪声放大器 砷化镓 PIN二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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