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薛兵

作品数：13 被引量：26H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信电气工程一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 5个一般工业技术
  • 4个电气工程
  • 2个化学工程
  • 2个金属学及工艺
  • 2个机械工程
  • 2个自动化与计算...
  • 2个理学

主题

  • 9个硅外延
  • 7个电阻率
  • 7个外延层
  • 7个外延片
  • 6个高阻
  • 6个硅外延片
  • 6个过渡区
  • 6个二极管
  • 5个外延炉
  • 5个肖特基
  • 5个均匀性
  • 5个光电
  • 4个低功耗
  • 4个探测器
  • 4个肖特基二极管
  • 4个功耗
  • 4个光电探测
  • 4个光电探测器
  • 4个VDMOS
  • 4个VDMOS器...

机构

  • 9个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中电集团
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个国家自然科学...
  • 2个天津市科技计...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家重点基础...
  • 1个中国博士后科...
  • 1个天津市自然科...
  • 1个中央级公益性...
  • 1个博士后科研启...
  • 1个国家部委资助...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 6个科技创新与应...
  • 5个天津科技
  • 5个半导体技术
  • 5个固体电子学研...
  • 4个甘肃科技
  • 4个电子元件与材...
  • 3个电子制作
  • 3个科技风
  • 2个材料导报
  • 2个集成电路应用
  • 2个压电与声光
  • 2个科学技术与工...
  • 2个微纳电子技术
  • 1个光电子．激光
  • 1个硅酸盐通报
  • 1个硅酸盐学报
  • 1个波谱学杂志
  • 1个红外与毫米波...
  • 1个红外技术
  • 1个功能材料

地区

  • 9个天津市
共 9 条 记 录，以下是 1-9
陈涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 均匀性 电阻率 过渡区 势垒电容
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李明达
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：均匀性 硅外延 硅外延片 硅外延层 过渡区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王文林
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 压电陶瓷材料 压电陶瓷 过渡区 吹扫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李普生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：均匀性 硅外延层 硅外延 化学气相沉积 外延片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李杨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 PIN光电探测器 外延片 吹扫 P型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高航
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 硅外延 吹扫 P型 变流量
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
殷海丰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 自掺杂 硅外延材料 HVPE ALN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐永宽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李扬
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：VDMOS器件 VDMOS 过渡区 硅外延片 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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