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戴凤钊

作品数：36 被引量：59H指数：6
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
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王向朝
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：光刻机 投影物镜 波像差 干涉仪 掩模
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐锋
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：波像差 干涉仪 剪切干涉 投影物镜 光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李杰
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：波像差 投影物镜 剪切干涉 剪切干涉仪 子孔径拼接
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张敏
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：测量方法 光阑 像差 干涉仪 面形
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
步扬
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：偏振 光刻机 斯托克斯参量 偏振态 数值孔径
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴飞斌
供职机构：中国科学院
研究主题：剪切干涉仪 剪切干涉 波像差 子孔径拼接 面形
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李思坤
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：掩模 光刻机 投影物镜 光刻 极紫外光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李永
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：子孔径拼接 剪切干涉仪 波像差 剪切干涉 面形
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑亚忠
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：光刻机 晶圆 目标函数 路径规划方法 路径规划
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杜聚有
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：光刻 对准标记 莫尔条纹 套刻 波片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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