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康洪亮

作品数：14 被引量：5H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信化学工程金属学及工艺建筑科学更多>>

合作作者

领域

  • 11个电子电信
  • 6个金属学及工艺
  • 3个电气工程
  • 2个一般工业技术
  • 1个化学工程
  • 1个机械工程
  • 1个文化科学
  • 1个理学

主题

  • 11个单晶
  • 10个硅单晶
  • 10个硅片
  • 9个单晶片
  • 9个晶片
  • 9个锗
  • 8个抛光片
  • 7个抛光
  • 6个酸腐蚀
  • 6个晶向
  • 5个倒角
  • 5个砂轮
  • 4个单晶硅
  • 4个沾污
  • 4个双氧水
  • 3个单晶硅片
  • 3个电池
  • 3个锗单晶
  • 3个砷化镓
  • 3个酸钠

机构

  • 8个中国电子科技...
  • 5个中国电子科技...
  • 1个中电集团
  • 1个信息产业部

资助

  • 2个国防基础科研...
  • 2个国家部委资助...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 8个电子工业专用...
  • 5个半导体技术
  • 5个电子工艺技术
  • 3个天津科技
  • 3个材料导报
  • 2个节能技术
  • 2个合肥工业大学...
  • 2个微纳电子技术
  • 2个中国电子科学...
  • 2个中国科技博览
  • 2个中国科技期刊...
  • 1个电源技术
  • 1个工业计量
  • 1个电子元件与材...
  • 1个中国新技术新...
  • 1个第十四届全国...

地区

  • 7个天津市
  • 5个北京市
共 12 条 记 录，以下是 1-10
陈建跃
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅片 厚层 硅单晶片 滑移线 砂轮
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶片 晶片 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 锗单晶 晶片 抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
佟丽英
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于妍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 化学腐蚀 碱性腐蚀 单晶片 硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陆峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：表面活性剂 锗 P型 硅片 金属
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张贺强
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅片 单晶硅 晶向 线锯 翘曲度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高丹
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：抛光片 腐蚀坑 硅单晶 画格 金相显微镜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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共2页<12>
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