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朱效立

作品数:155 被引量:121H指数:6
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
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119 条 记 录,以下是 1-10
谢常青
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李海亮
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 衬底 衍射光栅 自支撑 大高宽比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李冬梅
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:敏感膜 延迟线 柔性衬底 光刻胶 气体传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛洁斌
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 衬底 电子束曝光 电子束直写 衍射光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
辛将
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:能量守恒定律 衍射光学元件 大高宽比 方孔 光源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝钦
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘慎业
供职机构:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
研究主题:X射线 惯性约束聚变 条纹相机 激光等离子体 成像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
叶甜春
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:X射线光刻 沟道 半导体器件 版图 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
方磊
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:光刻胶 掩模 旋涂 电子束直写 大高宽比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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