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张慧慧

作品数：10 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

领域

  • 5个金属学及工艺
  • 5个电子电信
  • 4个一般工业技术
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  • 3个自动化与计算...
  • 2个化学工程
  • 2个文化科学
  • 1个经济管理
  • 1个医药卫生
  • 1个自然科学总论

主题

  • 5个单片
  • 5个单片集成
  • 5个低浓度
  • 5个低损耗
  • 5个电路
  • 5个电子电路
  • 5个度条件
  • 5个钝化层
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  • 4个单晶
  • 4个单模
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  • 4个电子器件
  • 4个多模光纤
  • 3个单晶硅
  • 3个单晶硅片
  • 3个氮化

机构

  • 5个中国科学院微...
  • 1个电子科技大学
  • 1个河北工业大学
  • 1个中国科学院
  • 1个株洲南车时代...
  • 1个杭州士兰微电...

资助

  • 4个国家自然科学...
  • 3个国家重点基础...
  • 2个国家高技术研...
  • 2个国家科技重大...
  • 2个国家电网公司...
  • 2个中国科学院知...
  • 2个中国科学院知...
  • 1个广东省自然科...
  • 1个基础研究重大...
  • 1个中国博士后科...
  • 1个天津市自然科...
  • 1个中国民航大学...
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  • 1个河北省自然科...
  • 1个山西省国际科...
  • 1个四川省科技计...
  • 1个香港创新及科...
  • 1个香港特区政府...
  • 1个中国科学院“...

传媒

  • 3个半导体技术
  • 3个Journa...
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  • 2个物理学报
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  • 2个微波学报
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  • 1个太阳能
  • 1个太阳能学报

地区

  • 5个北京市
共 5 条 记 录，以下是 1-5
周静涛
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：肖特基二极管 硅基 钝化层 肖特基 太赫兹
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
申华军
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：碳化硅 刻蚀 欧姆接触 INGAP/GAAS_HBT 肖特基二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨成樾
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：碳化硅 衬底 肖特基二极管 微波等离子体 肖特基接触
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘焕明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：钝化层 SUB 硅基 离子注入工艺 肖特基二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘新宇
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：氮化镓 刻蚀 欧姆接触 衬底 ALGAN/GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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