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刘玉岭

作品数：481 被引量：752H指数：13
供职机构：河北工业大学更多>>
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地区

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檀柏梅
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李薇薇
供职机构：河北工业大学信息工程学院
研究主题：CMP ULSI 超大规模集成电路 化学机械抛光 化学机械全局平面化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王娟
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 硅溶胶 抛光液 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
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高宝红
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 CMP 化学机械抛光 铜布线 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙鸣
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张建新
供职机构：天津工业大学
研究主题：等离子喷涂 反应等离子喷涂 复合粉 涂层 TIO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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