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胡正军

作品数：33 被引量：0H指数：0
供职机构：上海集成电路研发中心更多>>
相关领域：电子电信交通运输工程文化科学一般工业技术更多>>

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地区

  • 10个上海市
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周炜捷
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：干法刻蚀 硅衬底 牺牲层 清洗方法 平坦化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姚嫦娲
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：刻蚀 刻蚀工艺 互连 空气隙 通孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李铭
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵宇航
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：图像传感器 像元 光敏元件 CMOS影像传感器 CMOS图像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈寿面
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：晶体管 光刻 像元 电极 图像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄仁东
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：刻蚀 金属栅 金属 淀积 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王伟军
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：刻蚀 形貌 刻蚀工艺 图形化 空气隙
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林宏
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：空气隙 填充金属 铜互连 硅片 金属互连线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟旻
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：存储器单元 沟道 相变材料 相变 底电极
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周伟
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：CMOS图像传感器 光电二极管 漏极 分频器 晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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