2024年12月11日
星期三
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
李莹
作品数:
2
被引量:6
H指数:1
供职机构:
东北微电子研究所
更多>>
相关领域:
电子电信
更多>>
合作作者
高东岳
东北微电子研究所
郭常厚
东北微电子研究所
栾兰
东北微电子研究所
李建宏
东北微电子研究所
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
人物
机构
主题
传媒
资助
领域
任意字段
机构
人物
主题
传媒
资助
领域
任意字段
在结果中检索
领域
4个
电子电信
1个
自动化与计算...
主题
4个
电路
4个
集成电路
4个
大规模集成电...
3个
单晶
3个
单晶硅
3个
选择比
3个
选择性
3个
离子刻蚀
3个
刻蚀
3个
高选择性
3个
反应离子
3个
反应离子刻蚀
3个
半导体
3个
半导体加工
2个
频率合成器
2个
专用集成电路
2个
小数分频
2个
小数分频频率...
2个
芯片
2个
抗干扰
机构
4个
东北微电子研...
1个
中国电子科技...
资助
1个
国家部委预研...
传媒
4个
微处理机
1个
半导体技术
共
4
条 记 录,以下是 1-4
全选
清除
导出
高东岳
供职机构:东北微电子研究所
研究主题:大规模集成电路 半导体加工 选择比 反应离子刻蚀 高选择性
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
李建宏
供职机构:东北微电子研究所
研究主题:超大规模集成电路 CMOS 硅芯片 硅基薄膜 静态随机存储器
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
栾兰
供职机构:东北微电子研究所
研究主题:版图设计 大规模集成电路 半导体加工 选择比 反应离子刻蚀
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
郭常厚
供职机构:东北微电子研究所
研究主题:场区 CMOS电路 大规模集成电路 半导体加工 选择比
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张