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万关良

作品数：26 被引量：49H指数：3
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
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相关领域：电子电信金属学及工艺理学更多>>

合作作者

领域

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机构

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传媒

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地区

  • 15个北京市
  • 2个浙江省
  • 1个湖南省
共 24 条 记 录，以下是 1-10
郝玉清
供职机构：有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 直拉硅单晶 氧 电阻率 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
方锋
供职机构：有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 直拉硅单晶 氧 硅 单晶生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴志强
供职机构：有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 直拉硅单晶 氧 硅 单晶生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张果虎
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 直拉硅单晶 硅 氧 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周旗钢
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
肖清华
供职机构：有色金属研究总院
研究主题：硅片 厚度检测 损伤层 双晶衍射 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈海滨
供职机构：有色金属研究总院
研究主题：硅片 厚度检测 损伤层 双晶衍射 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢书银
供职机构：中南大学
研究主题：硅片 抗弯强度 机械强度 直拉硅 半导体器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
肖清华
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 离子注入 单晶硅 高温退火 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
库黎明
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 抛光 300MM硅片 平整度 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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