2024年12月11日
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邵磊
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供职机构:
哈尔滨工程大学
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合作作者
刘云涛
哈尔滨工程大学
杨晓亮
哈尔滨工程大学
王颖
哈尔滨工程大学
曹菲
哈尔滨工程大学
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杨晓亮
供职机构:哈尔滨工程大学
研究主题:抗辐射 绝缘体上硅 氧化层 光刻胶 抗辐射加固
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王颖
供职机构:哈尔滨工程大学
研究主题:牺牲 栅氧化层 晶体管 功率MOS器件 电子系统
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相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
曹菲
供职机构:哈尔滨工程大学
研究主题:栅氧化层 牺牲 多晶硅栅 晶体管 电子系统
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供职机构
所获资助
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刘云涛
供职机构:哈尔滨工程大学
研究主题:低功耗 全差分 接口 惯性器件 抗辐射
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