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李楠

作品数：131 被引量：19H指数：3
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金中国科学院科研装备研制项目更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术机械工程更多>>

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领域

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主题

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机构

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地区

  • 35个北京市
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夏洋
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 等离子体 氧化锌薄膜 SUB 共掺
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卢维尔
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 氧化锌薄膜 共掺 受主 掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵丽莉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 离子注入 菲涅耳波带片 注入机 特性参数
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李超波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 氧化锌薄膜 离子注入 等离子体 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 半导体制造技术 基片 化学吸附 前驱体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张庆钊
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：启辉 原子层沉积 等离子体 刻蚀工艺 电极
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李勇滔
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 等离子体 SUB 射频电源 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
屈芙蓉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 前驱体 PIII 薄膜封装 腔体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
席峰
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：启辉 电极 等离子体 等离子刻蚀 进气结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冷兴龙
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 薄膜封装 前驱体 白光干涉 激光干涉
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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