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史月增

作品数:14 被引量:17H指数:3
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术机械工程更多>>

领域

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地区

  • 20个天津市
  • 1个北京市
21 条 记 录,以下是 1-10
张丽
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:ALN PVT 氮化铝 籽晶 生长速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
程红娟
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:单晶 晶体 HVPE 氮化镓 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
齐海涛
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:籽晶 PVT ALN 碳化硅 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
金雷
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:籽晶 PVT ALN 碳化硅 衬底温度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐永宽
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 碳化硅 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郝建民
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:碳化硅 SIC 籽晶 PVT V
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘金鑫
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:碳化硅 CVD TAC涂层 高温化学 气相沉积法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张嵩
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:HVPE GAN 氢化物气相外延 氮化镓 GAAS衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐所成
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:X射线双晶衍射 氮化镓 厚层 氢化物 气相外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共3页<123>
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