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张涛

作品数:5 被引量:12H指数:2
供职机构:天津工业大学机械工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 2篇电化学
  • 2篇电化学行为
  • 2篇添加剂
  • 1篇乙基
  • 1篇硫脲
  • 1篇金属
  • 1篇金属铜
  • 1篇经纬仪
  • 1篇二乙基
  • 1篇PLANAR
  • 1篇THICK
  • 1篇
  • 1篇MICRO
  • 1篇N
  • 1篇TURNS
  • 1篇MICROC...
  • 1篇PERMAL...
  • 1篇自动检焦

机构

  • 4篇天津工业大学
  • 4篇中国科学院长...

作者

  • 4篇张涛
  • 3篇吴一辉
  • 3篇张平
  • 2篇杨建成
  • 2篇刘永顺
  • 2篇梁翠萍
  • 1篇乔彦峰
  • 1篇高岩

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇Journa...
  • 1篇化学学报
  • 1篇光电工程

年份

  • 3篇2008
  • 1篇2007
5 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
一种用于经纬仪的实时检焦系统被引量:4
2007年
为了使经纬仪进行实时自动检调焦,提出了一种双分离透镜法检焦系统,该方法利用目标自身的反射光,经双分离透镜将通过镜头后的光路分割成两束,通过检测目标在CCD上成像光斑位置的偏移量进行调焦,对具有一定亮度的目标能理想的自动对焦,自身不需发射系统,耗能少,结构紧凑;利用相关法进行数据处理和拟合,提高了检焦系统的分辨率。实验结果表明,此方法的检焦分辨率在0.1~0.15mm范围之内,检焦精度基本满足经纬仪第一像面焦深范围之内的要求,并具有调整方便以及实时性等优点。
梁翠萍张涛高岩乔彦峰
关键词:自动检焦
N′,N′-二乙基硫脲添加剂对铜微沉积工艺电化学行为的影响被引量:7
2008年
为了研究N',N'-二乙基硫脲添加剂在微沉积工艺中对铜金属孔洞填充能力的影响,采用线性伏安法(LSV)、循环伏安法(CV)、SEM测量法分析比较了无添加剂、含硫脲和含N',N'-二乙基硫脲添加剂时微沉积铜工艺中的电化学行为,并借助塔菲尔方程,分析比较此三种情况下电镀反应过程中的电极动力学参数.结果显示:当铜微沉积工艺中加入N',N'-二乙基硫脲添加剂时,产生活性极化,该活性极化效应降低铜离子的放电速度,抑制孔洞边缘部分沉积较快区域的过快生长;同时活性极化提高,将导致成核点的增加,沉积膜的晶粒较小,镀膜也较平滑细致,实验测得铜离子的平滑能力比没有添加剂时提高约50%.最后通过微沉积工艺成功地将金属铜填充入宽为10μm,深宽比为4∶1的微型凹槽中,且镀层内没有空洞、空隙以及细缝等缺陷.
张涛吴一辉杨建成张平
关键词:电化学行为
含N’N-二乙基硫脲添加剂的微电铸工艺金属铜填洞机理被引量:1
2008年
为了研究含N’N-二乙基硫脲添加剂的微电铸工艺金属铜填洞机理,采用线性伏安法、循环电压电流溶出法(CVS)、扫描电镜(SEM)以及XRD测量法研究了N’N-二乙基硫脲对微电铸工艺电化学行为的影响,并借助塔菲尔方程,研究了微电铸铜反应过程中的电极动力学参数。结果表明,当微电铸铜工艺中加入N’N-二乙基硫脲添加剂时,产生活性极化,提高了铜离子还原时所需的活化能,金属离子的放电速度从2.221 4 mA/cm2降低到约0.076 mA/cm2,从而增加了反应时的过电位,促使电极表面晶核成型速度增加,晶体成长速度由2.57μm/min降低到约0.17μm/min,铜离子的平滑能力提高约50%,有效地减小了微电铸时的边沿效应,使金属铜具有良好的填充微型孔洞的能力。本实验通过微电铸工艺成功地将金属铜填充入宽为10μm,深宽比为4∶1的微型凹槽中,且镀层内没有空洞、空隙及细缝等缺陷。
张涛吴一辉杨建成张平刘永顺
关键词:电化学行为
Fabricating a Micro Electromagnetic Actuator with High Energy Density
2008年
This paper introduces a new technology to fabricate a micro electromagnetic actuator with high energy density without an enclosed magnetic circuit. This technology includes fabricating multi-turns planar micro coils and fabricating the thick magnetic (NiFe) core on the silicon wafer. The multi-turns planar micro coils are fabricated by the electroplating method from the surface along the line and by dynamically controlling the current density of the copper electrolytes. In order to fabricate thick NiFe plating,the adhesion properties between the NiFe plating and the silicon substrates are improved by changing the surface roughness of the silicon substrates and increasing the thickness of the seed layer. Furthermore,the micro electromagnetic actuator is tested and the energy density of the actuator is evaluated by force testing. The experiments show that the microactuator is efficient in producing high magnetic energy density and high magnetic force.
梁翠萍张涛吴一辉张平刘永顺
共1页<1>
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