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王军

作品数：13 被引量：58H指数：5
供职机构：电子科技大学光电信息学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金广东省“十五”重大科技专项教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 13篇中文期刊文章

领域

  • 9篇电子电信
  • 3篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇机械工程

主题

  • 5篇发光
  • 4篇氧化铟
  • 4篇氧化铟锡
  • 4篇OLED
  • 3篇电致发光
  • 3篇有机电致发光
  • 3篇直流磁控
  • 3篇直流磁控溅射
  • 3篇溅射
  • 3篇ITO
  • 3篇ITO薄膜
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇低阻
  • 2篇电致发光器件
  • 2篇多层结构
  • 2篇有机电致发光...
  • 2篇有机发光
  • 2篇退火
  • 2篇发光器件

机构

  • 13篇电子科技大学
  • 1篇成都大学
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 13篇王军
  • 7篇杨刚
  • 6篇林慧
  • 6篇蒋亚东
  • 6篇蒋泉
  • 6篇成建波
  • 5篇陈文彬
  • 3篇杨健君
  • 3篇钟建
  • 3篇饶海波
  • 3篇张磊
  • 2篇李军建
  • 2篇黎威志
  • 2篇张有润
  • 1篇齐童
  • 1篇何其锐
  • 1篇祁康成
  • 1篇李璐
  • 1篇吴志明
  • 1篇杨明

传媒

  • 3篇半导体光电
  • 2篇光电子．激光
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇物理学报
  • 1篇电子科技大学...
  • 1篇液晶与显示
  • 1篇材料热处理学...
  • 1篇激光与红外
  • 1篇压电与声光
  • 1篇电子与封装

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2008
  • 5篇2007
  • 2篇2006
  • 1篇2004
共 13 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
干冰微粒喷射法清洗ITO玻璃及其对有机电致发光器件性能的影响
2007年
采用干冰微粒喷射法对ITO玻璃表面进行了清洁处理,并与浸泡式低频超声波湿法清洗的ITO玻璃进行了对比测量,结果表明:干冰微粒喷射法处理后,ITO薄膜表面的接触角减小,表面污染物颗粒数量下降,ITO薄膜表面上碳的含量较之未处理时降低了48.5%,锡、铟的含量分别增加了533.33%和267.57%,说明干冰微粒法对ITO薄膜表面的有机污染物和杂质颗粒的清洗效果超过了超声波湿法。此后,制备了干冰微粒法清洗ITO阳极的有机电致发光器件(OLED)器件,以及结构相同但ITO电极是用超声波湿法清洗的OLED器件,对这两种器件的参数进行了测量,其结果表明:干冰微粒喷射法清洗器件的启亮电压、亮度和电流效率与超声波湿法清洗的相比较均有所改善。
齐童李军建李璐王军
关键词：OLEDITO
直流法测试薄膜热导的数值模拟研究被引量：3
2012年
薄膜的热导率是薄膜热学性能的最重要参数之一,相对于多数文献的二维或三维测试结构,本文采用一维双端支撑悬臂梁结构研究了薄膜热导率的测试方法.悬臂梁包含上层的兼做加热电阻及测温电阻的金属条和下层的待测试薄膜.利用一维热传导方程推导并获得了在直流电流加热条件下,悬臂梁的温升分布(△T)及加热电阻两端电压增量(△U)表达式与薄膜热导率之间的关系.采用ANSYS有限元软件仿真了不同仿真参数时的△T及△U,仿真结果与温升表达式计算结果符合得很好.与常用的3倍频率法(3w)薄膜热学性能测试方法相比,一维悬臂梁直流法测试结构及手段较为简单且可以获得更为精确的结果.
黎威志王军
关键词：热传导ANSYS
有机薄膜器件电流机制的研究
2011年
对于有机薄膜器件(包括有机电致发光器件(OLED)和有机场效应晶体管(OTFT)),器件的电流机制直接决定了器件的性能,因此深刻理解其相关机理是十分必要的。虽然对于有机薄膜器件的电学性能研究较早,但是由于器件结构及有机薄膜内部影响机制的复杂性使得不同学者的研究结果很不一致。为此,文章以相同的镁银合金(MgAg)为电极,有机电子传输及发光材料八羟基喹啉铝(Alq3)为有机功能层,深入研究了MgAg/Alq3/MgAg器件的电流机制。测试及拟合结果表明,该器件为单电子器件,器件的电流属陷阱电荷限制电流机制。不同温度下的测试结果表明,随着温度增加器件电流迅速增加,这是因为随温度增加,器件中载流子的浓度和迁移率呈指数上升。
杨涛马敏辉黎威志王军
关键词：有机薄膜器件
基于Tracepro的太赫兹探测阵列光学镜头设计被引量：2
2014年
太赫兹探测成像技术是一种新兴的、极具发展前景的探测技术。为了满足太赫兹探测阵列的成像要求,设计了一种结构紧凑的折射型光学镜头,并采用Tracepro软件对该光学镜头轴上及离轴无穷远点在焦平面的成像情况进行了模拟仿真,优化了光学镜头结构参数。设计的光学镜头采用HRFZ-Si作透镜材料,并在透镜表面涂覆parylene抗反薄膜,其焦距为26.2 mm,视场角为16.3°,相对孔径为1.9∶1,分辨率为20 lp/mm。
闫淼王军杨明吴志明蒋亚东
关键词：太赫兹TRACEPRO光学镜头
利用新型的空穴注入层材料提高有机发光器件性能被引量：2
2006年
研究使用新材料2-TNATA作空穴注入层制备OLED,发现空穴注入层厚度的最佳参数为35 nm,器件的发光光谱随空穴注入层厚度并不发生显著变化,微腔作用对发光光谱的影响基本可以忽略。并将2-TNATA作为空穴注入层的器件同CuPc制作的器件进行了对比,发现使用2-TNATA能获得更佳的器件性能。
林慧杨刚王军蒋泉陈文彬蒋亚东成建波
关键词：空穴注入层OLED
低阻ITO玻璃的制造工艺被引量：5
2006年
有机发光显示器件是目前平板显示中的热点,所用ITO玻璃比液晶显示所用的有更高更严的要求。该文探讨了OLED用ITO玻璃生产的相关工艺,得出使用直流溅射ITO陶瓷靶时,较好的气氛是低氩微氧,功率约200W左右,溅射时基板温度约250℃,高温无氧退火。得到方阻20?以下、平均透过率大于80%的ITO玻璃。
杨健君李军建张有润王军林慧饶海波蒋泉成建波
关键词：氧化铟锡有机发光二极管
磁控溅射ITO薄膜的退火处理被引量：4
2008年
采用直流磁控溅射方法在室温下玻璃基板上制备ITO（Indium tin oxide）薄膜，并在真空中不同温度（100℃-400℃）下退火处理。研究了退火对薄膜表面形貌、电光特性的影响。XRD测试发现薄膜在200℃退火后结晶，优选晶向为（222）。随退火温度升高，方块电阻迅速下降，表面更加平整，薄膜在可见光范围平均透过率提高到85％。
王军成建波陈文彬杨刚蒋亚东蒋泉杨健君
关键词：退火直流磁控溅射方阻
直流磁控溅射ITO薄膜的正交试验分析被引量：8
2007年
利用直流磁控溅射系统制备ITO薄膜,采用正交试验表格L32(48)安排试验。测试了薄膜的方阻和透过率,分析了8个工艺参数对薄膜电光特性的影响,其中沉积气压、氩氧流量比和退火温度的影响最大。分析得到优化工艺参数为:沉积气压2×133.3224 mPa、氩氧流量比16∶0.5、退火温度427℃、靶基间距15、退火时间1 h、溅射功率300 W、退火氛围为真空、沉积温度227℃。在此工艺参数下制备的ITO薄膜方阻为17Ω/□,电阻率为1.87×10-4Ω.cm,在可见光区域平均透过率为85.13%。
王军林慧杨刚蒋亚东张有润
关键词：氧化铟锡正交试验法直流磁控溅射
发光层掺杂蓝色OLED的光电性能研究被引量：10
2007年
采用真空热蒸镀技术,在不同的掺杂浓度下,制备了4种双异质型结构的蓝色有机电致发光器件(OLED),其结构为ITO/CuPc(30 nm)/NPB(40 nm)/TPBi(30 nm):GDI691(x%)/Alq3(20 nm)/LiF(1 nm)/Al(50 nm),其中x%为发光层掺杂浓度,分别取1、2、3和4%。从实验结果分析可知:蓝色OLED的电流-电压(I-V)特性曲线、亮度-电压(L-V)曲线、亮度-电流(L-I)曲线及效率等光电性能随着发光层掺杂浓度的变化而改变。当驱动电压为15 V、掺杂浓度为3%时,器件可获得最大亮度6 100 cd.m-2,色坐标CIE为x=0.147、y=0.215,最大流明效率为1.221 m.W-1,电致发光(EL)发光光谱的峰值为468 nm。
钟建陈文彬杨刚蒋泉张磊王军林慧
关键词：多层结构掺杂
全彩OLED屏显示系统的设计被引量：9
2008年
制作了分辨率为128×160的1.9"全彩无源有机发光二极管(OLED)屏,OLED全彩像素的尺寸为240μm×240μm,子像素尺寸为190μm×45μm。显示系统通过数字显示接口(DVI)可将微机输出的18bits灰度数据传送到驱动电路,从而实现262k种颜色。当屏的平均工作亮度为40cd/m2时,由于采用了双屏驱动技术,OLED屏的寿命预计超过5000h,器件的功耗为300mW。
蒋泉成建波何其锐杨健君张磊陈文彬饶海波杨刚钟建王军林慧
关键词：全彩双屏
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