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盖玉喜

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇对准标记
  • 1篇投影光刻
  • 1篇相位光栅
  • 1篇光刻
  • 1篇光栅

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇殷履文
  • 1篇盖玉喜

传媒

  • 1篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案
2011年
描述了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机中的运用,通过比较同轴对准系统和离轴对准系统的原理,工作过程,阐述了当对准标记产生变形时离轴对准系统能更好地修正偏差从而保证光刻工艺中套刻精度的要求。
殷履文盖玉喜
关键词：相位光栅
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共1页<1>
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