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吕振华

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 1篇电极
  • 1篇掩膜
  • 1篇掩膜版
  • 1篇制作方法
  • 1篇图案
  • 1篇曝光机
  • 1篇显示器
  • 1篇显示器件
  • 1篇接触区
  • 1篇晶体管
  • 1篇基板
  • 1篇沟道
  • 1篇分辨率
  • 1篇薄膜晶体
  • 1篇薄膜晶体管
  • 1篇TFT

机构

  • 2篇京东方科技集...
  • 2篇北京京东方光...

作者

  • 2篇吕振华
  • 1篇尤杨
  • 1篇薛艳娜

年份

  • 2篇2016
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
一种图案对、TFT及其制作方法、掩膜版
本发明实施例提供一种图案对、TFT及其制作方法、掩膜版，涉及显示技术领域，能够在不提高曝光机分辨率的情况下，相邻两个薄膜图案之间的距离。该图案对，包括第一条状图案和第二条状图案，第一条状图案与第二条状图案之间的最大距离小...
薛艳娜吕振华王磊王世君
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薄膜晶体管、显示基板及显示器件
本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种薄膜晶体管、显示基板及显示器件。所述薄膜晶体管包括有源层、源电极和漏电极，所述有源层包括与所述源电极接触的源电极接触区、与所述漏电极接触的漏电极接触区,以及位于所述源电极接触区和漏电...
吕振华尤杨王世君陈希薛艳娜李月包智颖张勇肖文俊王磊陈小川姜文博米磊
文献传递
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共1页<1>
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