田颖萍
- 作品数：2 被引量：17H指数：2
- 供职机构：四川大学制造科学与工程学院更多>>
- 发文基金：科技人员服务企业行动项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 氮氩流量比对磁控溅射TiN薄膜生长织构的影响被引量：13
- 2012年
- 采用直流反应磁控溅射法,通过控制氮氩流量比,在Si(111)衬底上沉积了TiN薄膜,并用织构系数来量化TiN薄膜的生长取向。对TiN薄膜的织构、物相组成、形貌进行表征,分析了溅射沉积过程中氮氩流量比对TiN薄膜生长织构的影响,同时还分析了不同织构薄膜的表面及截面形貌。结果表明:氮氩流量比低于1∶30时,薄膜的织构由(200)转变为(111),同时还出现了TiN0.61相;(111)织构的薄膜表面均匀,致密性好,粗糙度小,以氮氩流量比为1∶60时所得织构系数为1.63的(111)薄膜最好。
- 田颖萍范洪远成靖文
- 关键词：氮化钛薄膜织构磁控溅射
- 氮气流量对反应磁控溅射TiN薄膜微结构与力学性能的影响被引量：4
- 2012年
- 利用磁控溅射镀膜技术分别在硬质合金YG6X和单晶Si片表面制备TiN薄膜,分析N2流量对薄膜相组成、表面形貌、显微硬度和膜基结合力的影响。结果表明,N2流量对薄膜的微结构以及力学性能具有重要影响。随着N2流量的降低,TiN薄膜表面孔洞和台阶明显减少,表面平整度得到明显改善;薄膜的物相组成在N2流量为0.2sccm时为TiN和TiN0.61两相;N2流量的变化改变了薄膜表面的能量状态,因此,降低N2流量导致TiN薄膜的生长取向由(200)面向(111)面转变。同时,N2流量为2.4 sccm时TiN薄膜的膜基结合力最高,此时TiN薄膜也具有最高的显微硬度。
- 成靖文范洪远田颖萍
- 关键词：磁控溅射TIN薄膜结合力
